[發明專利]一種耐腐蝕的等離子體化學反應裝置

有效

• 申請號: 202111340685.0
• 申請日: 2021-11-12
• 公開（公告）號: CN114192093B
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發明（設計）人: 聶林;龔少博;王華杰;趙偉;柯銳;侯和爽;劉灝;許敏;王占輝
• 申請（專利權）人: 核工業西南物理研究院
• 主分類號: B01J19/12
• 分類號: B01J19/12;B01J19/02
• 代理公司: 核工業專利中心 11007
• 代理人: 王婷

1.一種耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，所述裝置，包括：微波系統和等離子體化學反應腔體；

所述等離子體化學反應腔體為密封空腔結構，內部有反應腔室；所述反應腔室內放置有反應物料和反應氣體；

所述等離子體化學反應腔體插入所述微波系統的波導中；

所述微波系統，用于產生微波以激發所述反應腔室中的反應氣體生成等離子體；

所述反應物料在所述反應腔室內與所述等離子體進行化學反應；

所述裝置，還包括：腔室支架和滑軌；

所述腔室支架設置在所述滑軌上，并可在所述滑軌上滑動；

所述腔室支架，用于支撐所述等離子體化學反應腔體。

2.根據權利要求1所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，所述等離子體化學反應腔體，具體包括：物料托盤和朗繆爾探針；

所述物料托盤和所述朗繆爾探針均設置在所述反應腔室內部；

所述朗繆爾探針，用于提供種子電子，協助激發所述反應氣體；

所述物料托盤，用于盛放所述反應物料。

3.根據權利要求2所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，所述等離子體化學反應腔體上設置有與所述反應腔室貫通的朗繆爾探針入口；所述朗繆爾探針，包括：圓柱形針體、絕緣套管和密封法蘭；

所述絕緣套管套設在所述圓柱形針體外部，所述圓柱形針體的前端探出所述絕緣套；

所述密封法蘭，用于密封所述朗繆爾探針入口；所述密封法蘭上設置有電極，用于為所述圓柱形針體供電。

4.根據權利要求3所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，

所述物料托盤上設置有連接桿，用于將所述物料托盤經所述朗繆爾探針入口送入所述反應腔室內部；

所述連接桿上設置有帶凹槽的支撐柱，用于支撐所述絕緣套管。

5.根據權利要求4所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，

所述絕緣套管位于所述反應腔室的中心軸線上。

6.根據權利要求1所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，所述等離子體化學反應腔體上設置有與所述反應腔室貫通的兩個氣路接口，分別用于向所述反應腔室內輸入所述反應氣體以及將所述反應氣體導出所述反應腔室。

7.根據權利要求6所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，

至少兩個氣路接口分別經變徑組件與所述反應氣體的輸入端和輸出端連接。

8.根據權利要求1所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，所述裝置，還包括：微波支架；

所述微波支架，用于支撐所述微波系統；

所述微波支架的高度與所述腔室支架的高度匹配，以使所述等離子體化學反應腔體插入所述微波系統的波導中。

9.根據權利要求1-7任一項所述的耐腐蝕的等離子體化學反應裝置，其特征在于，

所述微波系統，用于產生2.45GHz微波。