[發(fā)明專利]電極的制造方法和電極的制造裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111338127.0
• 申請(qǐng)日: 2021-11-12
• 公開（公告）號(hào): CN114551777B
• 公開（公告）日: 2023-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 三村哲矢;榎原勝志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泰星能源解決方案有限公司;豐田自動(dòng)車株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01M4/04
• 分類號(hào): H01M4/04;H01M4/139;H01M10/058
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 宋魏魏

1.一種電極的制造方法，包括如下工序：

使電極材料通過旋轉(zhuǎn)的第1輥和旋轉(zhuǎn)的第2輥之間的間隙而形成由所述電極材料構(gòu)成的涂膜的工序，

使由所述電極材料構(gòu)成的涂膜附著于所述第2輥進(jìn)行輸送的工序，以及

將所述輸送的涂膜轉(zhuǎn)印到由輸送裝置輸送的電極集電體上，形成由所述涂膜構(gòu)成的電極合材層的工序；

基于所述涂膜的厚度或所述間隙的寬度使所述第2輥的圓周速度發(fā)生變化，由此使所述第2輥的圓周速度與所述電極集電體的輸送速度的速度比發(fā)生變化，

使該速度比的變化的時(shí)期基于下述式(1)，

t＝t_＿const×{B_x/B_ave}…(1)

(a)在基于涂膜的厚度的情況下，

t：從附著于第2輥的涂膜的厚度測(cè)定到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間，

t_＿const：從附著于第2輥的涂膜的厚度測(cè)定到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間的設(shè)定值，

B_x：附著于第2輥的涂膜的厚度的測(cè)定值，

B_ave：附著于第2輥的涂膜的厚度的測(cè)定值的平均值，

(b)在基于間隙的寬度的情況下，

t：從間隙處的涂膜化到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間，

t_＿const：從間隙處的涂膜化到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間的設(shè)定值，

B_x：間隙的寬度的值，

B_ave：間隙的寬度的值的平均值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中，所述電極材料為濕潤(rùn)造粒體。

3.一種電極的制造裝置，具備：

第1輥，

與所述第1輥相對(duì)配置的第2輥，

與所述第2輥相對(duì)配置且以輸送電極集電體的方式構(gòu)成的輸送部，

測(cè)定部，以及

以控制第2輥的圓周速度的方式構(gòu)成的控制部；

在所述第1輥與所述第2輥之間形成有間隙，以使得在一邊使所述第1輥和所述第2輥旋轉(zhuǎn)一邊供給電極材料時(shí)形成由所述電極材料構(gòu)成的涂膜，

所述第2輥以由所述電極材料構(gòu)成的涂膜附著的方式構(gòu)成，

所述測(cè)定部以測(cè)定附著于第2輥的由所述電極材料構(gòu)成的涂膜的厚度的方式或者以測(cè)定用于求出所述間隙的寬度的信息的方式構(gòu)成，

所述第2輥和所述輸送部以將附著于第2輥的由所述電極材料構(gòu)成的涂膜轉(zhuǎn)印到所述電極集電體上的方式構(gòu)成，

所述控制部構(gòu)成為：基于利用所述測(cè)定部測(cè)定的所述涂膜的厚度或所求出的所述間隙的寬度，使所述第2輥的圓周速度發(fā)生變化，由此使所述第2輥的圓周速度與所述電極集電體的輸送速度的速度比發(fā)生變化，并且使該速度比的變化的時(shí)期基于下述式(1)，

t＝t_＿const×{B_x/B_ave}…(1)

(a)在基于涂膜的厚度的情況下，

t：從附著于第2輥的涂膜的厚度測(cè)定到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間，

t_＿const：從附著于第2輥的涂膜的厚度測(cè)定到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間的設(shè)定值，

B_x：附著于第2輥的涂膜的厚度的測(cè)定值，

B_ave：附著于第2輥的涂膜的厚度的測(cè)定值的平均值，

(b)在基于間隙的寬度的情況下，

t：從間隙處的涂膜化到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間，

t_＿const：從間隙處的涂膜化到第2輥的圓周速度變化執(zhí)行為止的待機(jī)時(shí)間的設(shè)定值，

B_x：間隙的寬度的值，

B_ave：間隙的寬度的值的平均值。