[發明專利]疊層膜電池及其制備方法在審
| 申請號: | 202111336676.4 | 申請日: | 2021-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN114122161A | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發明(設計)人: | 張瑩;楊伯川;任明沖;蔡涔;趙小蘭 | 申請(專利權)人: | 東方日升新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 呂露 |
| 地址: | 315600 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 疊層膜 電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種疊層膜電池的制備方法,其特征在于,包括:
準備電池本體:所述電池本體具有依次設置的透明導電層、柵線結構及電介質層,所述電介質層的預設部位具有導電通路,所述預設部位為所述電介質層覆蓋于所述柵線結構的部位;
進行表面修飾:對所述電介質層進行修飾處理,以使得預設表面區域具有外露的柵線材料層;所述預設表面區域為修飾后的所述電池本體的表面中與所述柵線結構的待串聯部位對應的區域。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述預設部位中,與所述柵線結構的待串聯部位對應的區域為預設區域;
所述表面修飾步驟包括:在所述預設區域的表面形成所述柵線材料層。
3.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述柵線結構設有多根主柵作為所述柵線結構的待串聯部位;
所述電池本體中所述主柵的漿料用量為M1,所述表面修飾步驟中的漿料用量為M2,M1:M2=(40%~60%):(60%~40%)。
4.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述柵線結構的待串聯部位沿細柵的長度方向間隔分布;
滿足以下條件(a)和(b)中的至少一個:
(a)所述電池本體中所述細柵的漿料用量為M3,所述表面修飾步驟中的漿料用量為M4,M4/M3<5%;
(b)所述表面修飾步驟中,在所述細柵的長度方向上,對應每個所述柵線結構的待串聯部位形成的柵線材料層的長度為1.0mm~1.4mm。
5.根據權利要求2~4任一項所述的制備方法,其特征在于,所述柵線結構的材料為銀或銀包銅,所述表面修飾步驟使用的材料為銀。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述預設部位中,與所述柵線結構的待串聯部位對應的區域為預設區域;
所述表面修飾步驟包括:對所述電介質層進行反應性離子刻蝕直至去除所述預設區域的至少一分部,以使得柵線結構的待串聯部位的至少一部分外露作為所述柵線材料層。
7.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于,所述表面修飾步驟中,刻蝕氣體包括CHF3、CF4和O2;
滿足以下條件(c)和(e)中的至少一個:
(c)CHF3的流量為5sccm~30sccm,CF4的流量為5sccm~30sccm,O2的流量為1sccm~10sccm;可選地,CHF3的流量為10sccm~20sccm,CF4的流量為10sccm~20sccm,O2的流量為1sccm~5sccm;
(d)刻蝕速率為30nm/min~100nm/min;可選地,刻蝕速率為60nm/min~80nm/min;
(e)刻蝕不均勻度<3.2%;可選地,刻蝕不均勻度<1%。
8.一種疊層膜電池,其特征在于,包括依次設置的硅基體、非晶硅層、透明導電層、柵線結構及電介質層;
所述電介質層的預設部位具有導電通路,所述預設部位為所述電介質層覆蓋于所述柵線結構的部位;
所述疊層膜電池的預設表面區域具有外露的柵線材料層,所述預設表面區域為所述疊層膜電池的表面中與所述柵線結構的待串聯部位對應的區域。
9.根據權利要求8所述的疊層膜電池,其特征在于,所述預設部位將所述柵線結構全部覆蓋;
所述預設部位中,與所述柵線結構的待串聯部位對應的區域為預設區域;所述預設區域的表面形成有柵線材料層。
10.根據權利要求8所述的疊層膜電池,其特征在于,所述柵線結構的待串聯部位的至少一部分外露作為所述柵線材料層。
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H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





