[發明專利]一種洗脫溶液及用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法

有效

• 申請號: 202111329309.1
• 申請日: 2021-11-10
• 公開（公告）號: CN114249301B
• 公開（公告）日: 2023-06-16
• 發明（設計）人: 馮鈺天;邁克爾·扎魯茨基;馬博然
• 申請（專利權）人: 砹爾法紐克萊（寧波）醫療科技有限公司
• 主分類號: C01B7/00
• 分類號: C01B7/00
• 代理公司: 深圳市瑞方達知識產權事務所(普通合伙) 44314
• 代理人: 焦紳桀

1.一種用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、內靶采用鉍-鋁復合靶材，其中鉍層厚度為10-20μm，將內靶稱重后嵌接在加速器內靶站中，運行加速器，其中束流強度為50-150毫安，運行1-6h后關閉加速器；

S2、退出內靶站，取出內靶，采用清洗劑清洗內靶的金屬鉍層表面；

S3、內靶干燥后放置于干餾冷卻裝置中，通入惰性氣體，進行干餾及冷卻獲取固態的砹-211；

S4、配制洗脫溶液，所述洗脫溶液為洗脫劑溶解在有機溶劑中制得，其中洗脫劑為N-氯代丁二酰亞胺、過氧化氫、?N-溴代丁二酰亞胺、氯胺-T、醋酸中的至少一種，其中，N-氯代丁二酰亞胺-甲醇溶液、N-溴代丁二酰亞胺-甲醇溶液、氯胺-T-甲醇溶液的濃度為0.1-1mg/ml，過氧化氫-甲醇溶液、醋酸-甲醇溶液的濃度為0.5-1.5v/v%；采用洗脫溶液萃取步驟S3獲取的固態砹-211，得到含砹-211的溶液。

2.根據權利要求1所述的用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，所述步驟S1中，內靶包括形狀與加速器的靶位形狀配合的鋁基底，所述鋁基底表面附著或嵌接有鉍層，所述鉍層厚度為10-20μm。

3.根據權利要求2所述的用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，所述鋁基底中心沿軸向設有內凹的基槽，所述鉍層填充嵌接在所述基槽中；所述基槽為貫通至鋁基底兩端的貫通槽；或者所述基槽為兩端封閉的端封槽，軸向上端封槽外側的鋁基底部分為吸熱區。

4.根據權利要求2所述的用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，所述鋁基底背面設有內凹的冷卻槽。

5.根據權利要求1所述的用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中，清洗劑采用室溫的丙酮，清洗內靶的金屬鉍層表面。

6.根據權利要求1所述的用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，所述干餾冷卻裝置包括蒸餾機構、冷卻機構，冷卻機構中的冷卻管一端連接蒸餾機構，冷卻管另一端通入氫氧化鈉溶液中。

7.根據權利要求1所述的用于靶向核素藥的放射性核素砹-211的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，蒸餾機構加熱升溫對內靶進行干餾，升溫速率為2-5℃/min，升溫至200-250℃，維持10-20min，以升溫速率5-10℃/min，升溫至350-450℃，維持25-40min，然后降溫至常溫。