[發明專利]基于融合直方圖分層和非線性導數的邊緣檢測算法在審
| 申請號: | 202111312547.1 | 申請日: | 2021-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN114155174A | 公開(公告)日: | 2022-03-08 |
| 發明(設計)人: | 周祚峰;吳清泉 | 申請(專利權)人: | 西安西光產業發展有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/40 | 分類號: | G06T5/40;G06T7/13 |
| 代理公司: | 西安恒泰知識產權代理事務所 61216 | 代理人: | 李鄭建 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市高*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 融合 直方圖 分層 非線性 導數 邊緣 檢測 算法 | ||
1.一種基于融合直方圖分層和非線性導數的邊緣檢測算法,其特征在于由下述步驟組成:
(1)確定各向異性高斯方向導數濾波器的左右子窗口及權重
按公式(1)構建各向異性高斯方向濾波器gσ,ρ,θ(x,y):
其中,σ是高斯核的尺度,σ∈[1,6],ρ是各向異性因子,ρ∈[1,8],(x,y)是濾波窗口內的局部像素位置,x、y是非負整數,θ是以y軸為基準的旋轉角度,θ∈[0,π],Rθ是旋轉角度為θ的旋轉矩陣;
按公式(2)得gσ,ρ,θ(x,y)沿θ的一階偏導,即各向異性高斯方向導數濾波器ψσ,ρ,θ(x,y):
按公式(3)分別確定各向異性高斯方向導數濾波器的左子窗口NL和右子窗口NR:
按公式(4)提取NL和NR對應的濾波器絕對值權重wL,θ和wR,θ:
(2)直方圖分層和非線性濾波
對原始圖像I(x,y|i)中的像素i利用直方圖分層技術,i∈{0,1,…,255},生成T個由所有像素值為i組成的直方圖分層圖h(x,y|i),T=256;利用脈沖函數提取h(x,y|i),得到對應的二值圖像
對Г層二值圖像按照對應像素值i從小到大進行排序,去除τ層之前和Г-τ-1層之后的τ∈{0,1,2,3},選擇剩余的Г-2τ個利用公式(6)分別確定wL,θ和wR,θ的濾波結果φ(x,y|i,L,θ)和φ(x,y|i,R,θ):
按公式(7)得到Г層二值圖像經過wL,θ和wR,θ的選擇性非線性濾波結果φ(x,y|L,θ)和φ(x,y|R,θ):
(3)計算各向異性高斯方向導數響應向量
實現沿著方向θ上的濾波結果φ(x,y|L,θ)和φ(x,y|R,θ),再計算左右子窗的非線性濾波結果的差分,進而得到非線性各向異性高斯方向導數響應φ(x,y|θ):
對θ按公式(9)進行離散化,得到K個離散方向θk,K=1,2,…,k,計算每個方向上的導數響應φ(x,y|θk),得到非線性各向異性高斯方向導數響應向量ζ(x,y):
其中,K是離散方向采樣個數,K取值為84,θK表示第k個濾波器離散方向,k表示第k個濾波器;
(4)提取邊緣強度圖和邊緣方向圖
提取ζ(x,y)中元素的極大值,并將其定義為邊緣強度圖ESM(x,y):
ESM(x,y)=max{ζ(x,y)} (10)
提取ESM(x,y)對應的φ(x,y|θk),將其定義為邊緣方向圖EDM(x,y):
(5)非極大值抑制和雙閾值決策處理
對于每一個像素,在局部3×3窗口內對ESM(x,y)進行非極大值抑制處理:
首先在像素點(x,y)沿EDM(x,y)方向上利用插值算法計算兩側像素的ESM(x,y)值,并比較它們與像素點(x,y)處ESM(x,y)值的大小,如果像素點(x,y)處的ESM(x,y)大于兩側像素點處的ESM(x,y),那么像素點(x,y)對應的像素被認定為候選邊緣像素;
按公式(12)利用兩個分位點βupMN和βlowMN,確定高閾值Tup和低閾值Tlow:
其中,Tup為高閾值,Tlow為低閾值,βupMN是高分位點,βupMN=∈[0.6,0.8],βlowMN是低分位點,βlowMN∈[0.2,0.4];
定義集合Ω為非極大值抑制處理獲得的候選邊緣像素集合,則強邊緣像素集合S可以由高閾值判定獲得:
S={(x,y)∈Ω:ESM(x,y)≥Tup} (13)
然后,對于ESM(x,y)在高低閾值之間的候選邊緣像素組成的弱邊緣集合C={(x,y)∈Ω:Tlow≤ESM(x,y)≤Tup}中任意像素,如果存在一個連通路徑連接該像素與集合S,那么該像素就被認為是邊緣像素,并被加入到集合S;重復該過程直到C中不存在任何像素與S連通,從而得到圖像的最終二值邊緣圖。
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