[發(fā)明專(zhuān)利]在玻璃基材上鍍金屬膜的方法和復(fù)合部件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111310349.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-11-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113880455B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊鵬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 萬(wàn)津?qū)崢I(yè)(赤壁)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C03C17/36 | 分類(lèi)號(hào): | C03C17/36;C03C17/245;C03C17/09 |
| 代理公司: | 華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎金娣 |
| 地址: | 437300 湖北省*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 玻璃 基材 鍍金 方法 復(fù)合 部件 | ||
本發(fā)明涉及一種在玻璃基材上鍍金屬膜的方法和復(fù)合部件。該方法包括:在玻璃基材上沉積包含間隔分布的碳顆粒的碳膜;在碳顆粒之間的間隙中沉積第一金屬膜;對(duì)碳膜進(jìn)行氧化,得到碳氧化物氣體,并對(duì)第一金屬膜進(jìn)行氧化,得到第一金屬氧化物;去除碳氧化物氣體,制得具有凹凸不平表面的金屬氧化物膜層;在具有有凹凸不平表面的金屬氧化物膜層上沉積第二金屬膜,第二金屬膜覆蓋在在氧化物膜層的表面上,并填充上述凹凸不平結(jié)構(gòu),形成鑲嵌結(jié)構(gòu)。該方法顯著增加了金屬膜和玻璃基材的結(jié)合力,解決了脫膜問(wèn)題,同時(shí)不影響產(chǎn)品的光澤度,另外,操作簡(jiǎn)單,適合工業(yè)化應(yīng)用,前景廣闊。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及玻璃鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種在玻璃基材上鍍金屬膜的方法和復(fù)合部件。
背景技術(shù)
在玻璃表面鍍金屬膜很容易出現(xiàn)膜基結(jié)合力不好導(dǎo)致針孔、脫膜等不良現(xiàn)象。
針對(duì)此問(wèn)題,目前已報(bào)道對(duì)玻璃基材表面進(jìn)行噴砂處理,增加玻璃表面的粗糙度,提高膜層結(jié)合力的技術(shù)方案,這種方法雖可增加金屬膜層的結(jié)合力,但是改變了玻璃表面的光澤度,只能運(yùn)用于對(duì)玻璃光澤度要求不高的領(lǐng)域。而對(duì)于光澤度要求很高的領(lǐng)域,通常是通過(guò)提高玻璃表面的潔凈度來(lái)實(shí)現(xiàn),但與此同時(shí),玻璃基材和金屬膜之間的結(jié)合力無(wú)法實(shí)現(xiàn)高度提升。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠提高玻璃基材和金屬膜結(jié)合力的方案。
技術(shù)方案如下:
一種在玻璃基材上鍍金屬膜的方法,包括如下步驟:
在玻璃基材上沉積碳膜,所述碳膜包含間隔分布的碳顆粒;
在所述碳顆粒之間的間隙中沉積第一金屬膜;
對(duì)所述碳膜進(jìn)行氧化,得到碳氧化物氣體,并對(duì)所述第一金屬膜進(jìn)行氧化,得到第一金屬氧化物;
去除所述碳氧化物氣體,制得具有凹凸不平表面的金屬氧化物膜層;
在所述具有有凹凸不平表面的金屬氧化物膜層上沉積第二金屬膜,所述第二金屬膜覆蓋在在所述氧化物膜層的表面上并填充上述凹凸不平結(jié)構(gòu),形成鑲嵌結(jié)構(gòu)。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,在所述具有凹凸不平表面的金屬氧化物膜層中,其凹槽部分占所述金屬氧化物膜層的體積百分比為10%~60%。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述碳膜的厚度為X nm,0<X≤3;
所述第一金屬膜的厚度為Y nm,0<Y≤3,且Y≤X。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第二金屬膜的厚度為5nm~1000nm。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第二金屬膜中的金屬選自鈮、鈦、鉭和鋁中的至少一種。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一金屬膜中的金屬選自鈮、鈦、鉭和鋁中的至少一種。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述第一金屬膜中的金屬和所述第二金屬膜中的金屬種類(lèi)相同。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述金屬氧化物膜層中包含的金屬氧化物分別獨(dú)立地選自五氧化二鈮、二氧化鈦、五氧化二鉭和三氧化二鋁中的至少一種。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,沉積所述碳膜、第一金屬膜和第二金屬膜的方式分別獨(dú)立選自磁控濺射或蒸鍍。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,在所述玻璃基材上沉積所述碳膜之前,還包括在所述玻璃基材上沉積金屬氧化物輔助薄膜的操作。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述金屬氧化物輔助薄膜中的金屬氧化物選自鈮的氧化物、鈦的氧化物、鉭的氧化物和鋁的氧化物中的至少一種。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述金屬氧化物輔助薄膜中的金屬氧化物和所述第一金屬氧化物的種類(lèi)相同。
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