[發(fā)明專利]一種提拉法生長氧化鎵晶體的雙腔結(jié)構(gòu)與方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111306205.9 | 申請日: | 2021-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN114232070B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張輝;王嘉斌;夏寧;馬可可;劉瑩瑩;楊德仁 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州鎵仁半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/00 | 分類號: | C30B15/00;C30B29/16 |
| 代理公司: | 杭州五洲普華專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33260 | 代理人: | 姚宇吉 |
| 地址: | 311202 浙江省杭州市蕭山區(qū)寧圍*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提拉法 生長 氧化 晶體 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種提拉法生長氧化鎵晶體的方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
1)籽晶的安裝:將籽晶固定在籽晶桿上,再將籽晶桿安裝在末端具有籽晶更換裝置的提拉桿上;
2)氧化鎵料制備和熔融:將處理后的氧化鎵料餅放入加熱坩堝內(nèi),密閉好主腔體,抽真空至0-3*10-4pa,保壓2h以上,通入氬氣或二氧化碳至常壓,用中頻感應(yīng)加熱分段升溫將原料完全熔化;
3)漂浮物處理方法:將熔化的氧化鎵熔體,在熔融溫度以上10-30℃,保持過熱1h以上,緩慢降溫至熔體表面有小塊狀漂浮物出現(xiàn),下入籽晶至漂浮物中部,觀察析出晶體的大小,繼續(xù)降溫待析出晶體直徑完全包覆漂浮物時,升起籽晶提出熔體界面,提升至第二腔體內(nèi),關(guān)閉主腔體和第二腔體之間的推拉式擋塊裝置,向第二腔體內(nèi)通入冷卻用惰性氣體,冷卻0.5-1h后,利用籽晶更換裝置更換新的籽晶桿及生長籽晶,在籽晶冷卻期間給熔體重新升溫10-30℃,保持熔體過熱,保溫1h以上;
4)氧化鎵晶體生長:緩慢降溫至熔融溫度以上的2-3℃,將安裝好新籽晶的籽晶桿,緩慢下降至熔體上方3~5mm位置烘烤30分鐘,開始引晶,控制籽晶轉(zhuǎn)速3rpm,待籽晶表面微熔,縮頸收細(xì)至1-2mm時,進(jìn)行放肩,放肩控制提拉速度1-3mm/h,直徑接近晶體目標(biāo)直徑后打開程序自動控制,開始等徑生長,待晶體生長至目標(biāo)長度后退出程序自動控制,熔體升溫20-30℃,保溫30min,將晶體從熔體中提出至主腔體上部,控制以100w/h的速率降溫至紅外測溫溫度1200℃后,以500w/h的速率繼續(xù)冷卻至0w,待主腔體溫度完全降至室溫時,打開腔門取出晶體;
所述提拉法生長氧化鎵晶體方法使用的雙腔結(jié)構(gòu),包括主腔體、第二腔體、加熱線圈、保溫材料組件以及提拉旋轉(zhuǎn)裝置,所述第二腔體設(shè)置于主腔體的頂端并與主腔體相通,所述主腔體中心處設(shè)有坩堝托與加熱坩堝,所述坩堝托下方設(shè)有坩堝升降裝置;其中,所述第二腔體與主腔體之間設(shè)有推拉式擋塊裝置,用于將第二腔體與主腔體隔絕;所述提拉旋轉(zhuǎn)裝置上設(shè)有籽晶更換裝置,所述籽晶更換裝置包括快插裝置與連接裝置,所述快插裝置上端與提拉旋轉(zhuǎn)裝置的提拉桿固定,下端設(shè)有與連接裝置相配的凹槽,所述連接裝置的下端設(shè)有用于籽晶固定的連接孔,所述連接裝置的截面為橢圓形,快插裝置與連接裝置的外部還設(shè)有長螺母。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提拉法生長氧化鎵晶體的方法,其特征在于,所述提拉旋轉(zhuǎn)裝置與所述坩堝升降裝置處于同一中心線上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提拉法生長氧化鎵晶體的方法,其特征在于,所述第二腔體上還設(shè)有紅外測徑裝置與觀察口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提拉法生長氧化鎵晶體的方法,其特征在于,所述主腔體上設(shè)有主觀察窗,所述保溫材料組件包括包裹加熱坩堝的第一保溫層與保溫罩。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提拉法生長氧化鎵晶體的方法,其特征在于,步驟2)中,氧化鎵料餅的處理方法為將5N或6N級的氧化鎵粉料,真空除水后,用液壓或等靜壓的方式壓制成料餅,在燒結(jié)爐內(nèi)1300-1600℃燒結(jié)成塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提拉法生長氧化鎵晶體的方法,其特征在于,步驟4)中,等徑生長的提拉速度控制在1-2mm/h,轉(zhuǎn)速控制在3-15rpm。
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