[發明專利]一種高耐磨滲花瓷質拋光磚及其制備方法

有效

• 申請號: 202111306109.4
• 申請日: 2021-11-05
• 公開（公告）號: CN113979787B
• 公開（公告）日: 2022-12-16
• 發明（設計）人: 謝志軍;范周強;楊元東;黃秋立;曹國芹
• 申請（專利權）人: 蒙娜麗莎集團股份有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C03C8/00;C03C8/20;C03C8/02;C04B35/14;C04B33/13;C04B33/132
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

1.一種高耐磨滲花瓷質拋光磚的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

制備坯體；坯體在25～600℃的平均膨脹系數為8.5～8.9×10^-6 ℃^-1；

在坯體表面施高膨脹面釉；所述高膨脹面釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：60%～79%，Al₂O₃：23%～29%，堿土金屬氧化物：0.2%～0.6%，堿金屬氧化物：5.1%～7.1%；所述高膨脹面釉在25～600℃的平均膨脹系數為8.9～9.3×10^-6 ℃^-1；所述高膨脹面釉燒成后的吸水率控制在2～6wt%；

在施高膨脹面釉后的坯體表面施滲花面釉；滲花面釉在25～600℃的平均膨脹系數為8.0～8.4×10^-6 ℃^-1；

在施滲花面釉后的坯體表面噴墨打印滲花墨水；

將噴墨打印滲花墨水后的坯體在1160～1195℃、燒成時間為65～85min下燒成并拋光，得到所述高耐磨滲花瓷質拋光磚。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述高膨脹面釉的比重為1.32～1.38，施加量為160～250克/平方米。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述滲花面釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：59%～69%，Al₂O₃：15%～25%，堿土金屬氧化物：0.5%～4%，堿金屬氧化物：4.7%～7.3%，ZrO₂：3.5%～16%。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述滲花面釉的比重為1.76～1.85，施加量為575～675克/平方米。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述滲花面釉的原料組成包括：以重量份計，鉀長石18～35份，鈉長石10～30份，水洗高嶺土4～12份，煅燒高嶺土2～10份，石英2～12份，高鋯熔塊 15～35份，亞微米級氧化鋯3～10份，超細氧化鋁3～10份，燒滑石3～12份，納米二氧化硅2～5份，鈦白粉0.3～0.6份。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述高鋯熔塊以硅酸鋯的形式引入鋯，化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂：55%～69%，Al₂O₃：5%～12%，MgO：0.4%～4.5%，K₂O：0.5%～4.5%，Na₂O：2.2%～3.8%，ZrO₂：20%～31%。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的制備方法獲得的高耐磨滲花瓷質拋光磚。