[發(fā)明專利]一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202111301069.4
• 申請日: 2021-11-04
• 公開（公告）號: CN114203771A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙文;韓樂樂;吳國東;占小奇;許立雄
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56;G06F3/041
• 代理公司: 廣東君龍律師事務(wù)所 44470
• 代理人: 丁建春

1.一種顯示面板，其特征在于，包括：

層疊設(shè)置的觸控層和偏光層；所述偏光層內(nèi)包括離子，所述觸控層包括多個觸控走線，每個所述觸控走線包括層疊設(shè)置的第一金屬層和第二金屬層，且所述第一金屬層鄰近所述偏光層設(shè)置；

其中，所述第一金屬層的化學穩(wěn)定性強于所述第二金屬層的化學穩(wěn)定性，所述第二金屬層上設(shè)置有至少一個凹槽，所述第一金屬層覆蓋所述凹槽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，

在所述第一金屬層至所述第二金屬層的層疊方向上，所述凹槽貫通所述第二金屬層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述觸控走線還包括：

第三金屬層，層疊設(shè)置于所述第二金屬層背離所述第一金屬層一側(cè)；且所述第三金屬層的化學穩(wěn)定性強于所述第二金屬層的化學穩(wěn)定性，所述第一金屬層和所述第三金屬層在所述凹槽位置直接接觸；

優(yōu)選地，所述第一金屬層和所述第三金屬層的材質(zhì)相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的顯示面板，其特征在于，

在垂直于所述觸控走線的長度延伸方向上，所述觸控走線包括相對設(shè)置的第一側(cè)壁和第二側(cè)壁，所述凹槽貫通所述第一側(cè)壁和所述第二側(cè)壁。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，

所述第一金屬層覆蓋并填平所述凹槽；或者，

所述第一金屬層覆蓋所述凹槽，所述第一金屬層背離所述第二金屬層的表面形成凹陷；所述觸控走線還包括填充金屬層，用于填平所述凹陷；且所述填充金屬層的化學穩(wěn)定性強于所述第二金屬層的化學穩(wěn)定性。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，

所述第一金屬層延伸并覆蓋所述第二金屬層的外側(cè)面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述顯示面板還包括：

阻隔層，位于所述偏光層和所述觸控層之間，且所述阻隔層覆蓋所述第一金屬層；

優(yōu)選地，所述阻隔層的材料包括無機材料，所述無機材料包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中的至少一種。

8.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，

形成觸控層，所述觸控層包括多個觸控走線，每個所述觸控走線包括層疊設(shè)置的第一金屬層和第二金屬層；其中，所述第一金屬層的化學穩(wěn)定性強于所述第二金屬層的化學穩(wěn)定性，所述第二金屬層上設(shè)置有至少一個凹槽，所述第一金屬層覆蓋所述凹槽；

在所述第一金屬層背離所述第二金屬層的一側(cè)設(shè)置偏光層，其中，所述偏光層內(nèi)包括離子。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述形成觸控層的步驟，包括：

沉積形成所述第二金屬層，且所述第二金屬層上設(shè)置有至少一個所述凹槽；

在所述第二金屬層設(shè)置有所述凹槽的一側(cè)形成所述第一金屬層，所述第一金屬層覆蓋所述凹槽。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-7任一項所述的顯示面板。