[發(fā)明專利]一種高電流密度超導(dǎo)纜線在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111286612.8 | 申請日: | 2021-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN114141421A | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王哲;李重杭;呂志寧;余鵬;汪楨子;徐旭輝;陳騰彪 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳供電局有限公司 |
| 主分類號: | H01B7/42 | 分類號: | H01B7/42;H01B7/17;H01B7/02;H01B12/04 |
| 代理公司: | 深圳匯智容達(dá)專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44238 | 代理人: | 潘中毅 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電流密度 超導(dǎo) 纜線 | ||
1.一種高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,包括:
嵌入在骨架內(nèi)的堆疊超導(dǎo)帶,所述堆疊超導(dǎo)帶是由多層超導(dǎo)帶堆疊形成截面為矩形的柱狀結(jié)構(gòu);
保護(hù)層,設(shè)置在所述堆疊超導(dǎo)帶的頂部和底部;
所述骨架包括上下兩個(gè)冷卻通道,以所述堆疊超導(dǎo)帶的水平中心軸呈上下對稱設(shè)置,還包括左右兩個(gè)液氮流入槽,以所述堆疊超導(dǎo)帶的豎直中心軸呈左右對稱設(shè)置;
包覆所述骨架的絕緣層;
包覆所述絕緣層的屏蔽層;
包覆所述屏蔽層的保護(hù)外殼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述保護(hù)層包括上下兩層,分別加裝在所述堆疊超導(dǎo)帶的頂部和底部,各層的厚度為單層超導(dǎo)帶的2-3倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述保護(hù)層的上下兩層分別通過在所述堆疊超導(dǎo)帶的頂部和底部兩層的超導(dǎo)帶上涂覆的焊錫與所述堆疊超導(dǎo)帶連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述冷卻通道為管狀結(jié)構(gòu),其截面是半圓環(huán)或半矩形環(huán),所述冷卻通道具有拱起部和管道部,拱起部與所述保護(hù)層相接合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述液氮流入槽的截面是矩形或半圓形,所述液氮流入槽與所述堆疊超導(dǎo)帶之間通過涂覆的焊錫帶連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述骨架中的上下兩側(cè)的冷卻通道、左右兩側(cè)的液氮流入槽共同形成一嵌入空間,所述堆疊超導(dǎo)帶被嵌入在所述嵌入空間中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述絕緣層用于將所述骨架進(jìn)行固定,所述絕緣層采用在低溫下具有良好機(jī)械性能且絕緣性能良好的絕緣紙繞制而成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,所述屏蔽層采用單端或者兩端接地,形成“法拉第籠”,用于屏蔽所述高電流密度超導(dǎo)纜線對外電場。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,上冷卻通道或下冷卻通道在豎直方向上還設(shè)有一對隔板,插入在所述堆疊超導(dǎo)帶與左右兩側(cè)的液氮流入槽之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電流密度超導(dǎo)纜線,其特征在于,高電流密度超導(dǎo)纜線是截面為圓形的棒狀結(jié)構(gòu),所述堆疊超導(dǎo)帶位于圓形中央。
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