[發(fā)明專(zhuān)利]基于逆康普頓散射X光源的高效康普頓散射成像系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111271755.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-10-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113984815B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 遲智軍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京師范大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N23/20066 | 分類(lèi)號(hào): | G01N23/20066;G01N23/20008;A61B6/00;A61B6/06 |
| 代理公司: | 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246 | 代理人: | 許富強(qiáng) |
| 地址: | 100875 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 逆康普頓 散射 光源 高效 康普頓 成像 系統(tǒng) | ||
1.基于逆康普頓散射X光源的高效康普頓散射成像系統(tǒng),其特征在于,該系統(tǒng)包含:逆康普頓散射X光源(10)、入射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(20)、成像物體(3)、康普頓散射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(50)和X射線(xiàn)探測(cè)器(60);
其中,所述入射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(20)設(shè)置在逆康普頓散射X光源(10)和成像物體(3)之間,所述逆康普頓散射X光源(10)產(chǎn)生的入射X射線(xiàn)為豎直偏振,入射X射線(xiàn)偏振方向垂直于光源-物體-探測(cè)器所在的平面,經(jīng)入射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(20)形成準(zhǔn)單色的X射線(xiàn),并入射至成像物體(3);所述康普頓散射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(50)設(shè)置在X射線(xiàn)探測(cè)器(60)和成像物體(3)之間,X射線(xiàn)經(jīng)成像物體(3)散射獲得的散射X射線(xiàn)經(jīng)過(guò)康普頓散射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(50)后經(jīng)X射線(xiàn)探測(cè)器(60)探測(cè);所述X射線(xiàn)探測(cè)器(60)設(shè)置在與入射X射線(xiàn)垂直的方向上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于逆康普頓散射X光源的高效康普頓散射成像系統(tǒng),其特征在于,所述入射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(20)的材料為鎢或鉛。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于逆康普頓散射X光源的高效康普頓散射成像系統(tǒng),其特征在于,該系統(tǒng)的成像模式包含:近場(chǎng)成像和遠(yuǎn)場(chǎng)成像;當(dāng)成像模式為近場(chǎng)成像時(shí),該系統(tǒng)采用點(diǎn)掃描或線(xiàn)掃描方式進(jìn)行成像,在線(xiàn)掃描方式進(jìn)行成像時(shí),所述康普頓散射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(50)為一維平行孔陣列,所述X射線(xiàn)探測(cè)器(60)由一維探測(cè)器陣列組成;當(dāng)成像模式為遠(yuǎn)場(chǎng)成像時(shí),該系統(tǒng)采用面掃描方式成像,康普頓散射X射線(xiàn)準(zhǔn)直器(50)為二維平行孔陣列,X射線(xiàn)探測(cè)器(60)由二維探測(cè)器陣列組成。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線(xiàn)、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線(xiàn)輻照樣品以及測(cè)量X射線(xiàn)熒光
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