[發明專利]一種基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置

在審

• 申請號: 202111268065.0
• 申請日: 2021-10-29
• 公開（公告）號: CN114130158A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發明（設計）人: 董仕宏;吳倩倩;張世忠
• 申請（專利權）人: 蘇州仕凈科技股份有限公司
• 主分類號: B01D53/04
• 分類號: B01D53/04
• 代理公司: 常州市權航專利代理有限公司 32280
• 代理人: 趙慧

1.一種基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，包括：

吸附件，所述吸附件包括吸附箱、吸附導向管和吸附罐，所述吸附導向管設置在所述吸附箱上，所述吸附罐設置在所述吸附導向管內；

吸附收集件，其設置在所述吸附箱上；

還原件，其設置在所述吸附箱上，所述還原件用于對所述吸附罐進行還原處理；

吸附裝配件，其設置在所述吸附箱上，所述吸附裝配件包括吸附分發件和裝填件，所述吸附分發件和所述裝填件均設置在所述吸附箱上；

其中：吸附飽和的所述吸附罐被裝填件從所述吸附導向管一端推出，所述吸附收集件將被推出的所述吸附罐推移至所述還原件內做還原處理，所述吸附分發件將還原處理后的所述吸附罐放置在所述裝填件上，待所述裝填件將還原后的所述吸附罐推入所述吸附導向管另一端。

2.根據權利要求1所述的基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，所述吸附箱通過支撐腳固定安裝在地面上，所述吸附箱一端端面貫通有廢氣輸入管，所述吸附箱另一端端面貫通有氣體排出管；所述吸附件還包括上部吸附支撐板和下部吸附支撐板，所述上部吸附支撐板設置在所述吸附箱一端內壁，所述下部吸附支撐板水平設置在所述吸附箱另一端內壁上；所述吸附導向管一端與所述上部吸附支撐板貫通，所述吸附導向管另一端與所述下部吸附支撐板貫通，多根所述吸附導向管呈矩陣分布。

3.根據權利要求2所述的基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，所述上部吸附支撐板一端面上設置有多個導向板，位于所述吸附導向管兩側的所述導向板之間形成導向槽，所述下部吸附支撐板一端面上設置有斜面鎖舌件。

4.根據權利要求3所述的基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，所述吸附罐呈金屬管狀，所述吸附罐外壁上套裝有滑動密封圈，所述吸附罐兩端面設置有濾網，所述吸附罐內填充滿吸附介質；所述吸附罐嵌裝在所述吸附導向管內，多個所述吸附罐填充在多根所述吸附導向管內，使每一根所述吸附導向管內的所述吸附罐總長度滿足吸附需要。

5.根據權利要求4所述的基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，所述吸附收集件包括第一電機、第一螺桿、第一滑動桿和收集推移板，所述第一電機設置在所述吸附箱上，所述第一螺桿一端固定設置在所述第一電機轉軸上，所述第一滑動桿水平固定設置在所述吸附箱一端內壁上，并且所述第一滑動桿與所述第一螺桿平行；所述收集推移板上嵌裝有第一花鍵，并且所述收集推移板上設置有第一滑動通孔，所述收集推移板通過所述第一花鍵套裝在所述第一螺桿上，并且所述第一花鍵與所述第一螺桿配合，所述第一滑動通孔套裝在所述第一滑動桿上。

6.根據權利要求5所述的基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，所述還原件包括還原管、上部封閉件和下部封閉件，所述還原管呈弧形管狀，所述還原管沿豎向固定設置在所述吸附箱側壁上，并且所述還原管一端側壁與所述吸附箱之間設置有推入通孔，所述推入通孔與所述導向槽對應，所述還原管另一端側壁與所述吸附箱之間設置有拉出通孔，多根所述還原管相互平行。

7.根據權利要求6所述的基于吸附還原的工業廢氣一體化處理裝置，其特征在于，所述上部封閉件包括上部密封管、上部封堵板、上部推動桿、上部固定管、上部磁力線圈和入風軟管，所述上部密封管呈矩形管狀，所述上部密封管一端水平貫通設置在所述還原管一端側壁上；所述上部封堵板內設置有上部中繼腔，所述上部中繼腔與所述上部封堵板底面貫通；所述上部封堵板嵌裝在所述上部密封管內，并且所述上部封堵板能夠在所述上部密封管內密封滑動至所述還原管內；所述上部推動桿呈空心管狀，所述上部推動桿一端貫穿所述上部密封管另一端面后與所述上部封堵板貫通連接；所述上部固定管設置在所述上部密封管另一端上，所述上部磁力線圈嵌裝在所述上部固定管內，并且所述上部磁力線圈套在所述上部推動桿外；所述入風軟管一端與所述上部推動桿另一端貫通連接；多套所述上部封堵件與所述還原管逐一對應。