[發明專利]研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盤的制造方法有效
| 申請號： | 202111254736.8 | 申請日： | 2018-10-31 |
| 公開（公告）號： | CN113913156B | 公開（公告）日： | 2022-06-24 |
| 發明（設計）人： | 瀧澤利雄 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | C09K3/14 | 分類號： | C09K3/14;B24B1/00;B24B37/02;B24B37/04;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 孟偉青;褚瑤楊 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 玻璃 制造 方法 以及 磁盤 | ||
1.一種研磨液，該研磨液包含氧化鈰作為游離磨粒，用于對玻璃基板的表面進行研磨的研磨處理，該研磨液的特征在于，
在通過激光衍射/散射法對所述氧化鈰求出的粒度分布中，將從小粒徑側起的累積顆粒體積達到全部顆粒體積的x%時的粒徑設為Dx時，
D5為1μm以下，
D100為3μm以上，
D50為0.8μm～2.4μm，
D95為7μm以下，
所述粒度分布中的頻率最大的粒徑為Dpeak，Dpeak－D5小于D95－Dpeak，
其中，所述Dx的單位為μm。
2.如權利要求1所述的研磨液，其中，所述D95與D5之差為3μm以上。
3.如權利要求1所述的研磨液，其中，所述D95與D5之差為4μm以上。
4.如權利要求1～3中任一項所述的研磨液，其中，所述氧化鈰的粒度分布因用于所述研磨處理而向小粒徑方向位移。
5.一種玻璃基板的制造方法，其中，所述制造方法包括下述處理:
使用權利要求1～4中任一項所述的研磨液對所述基板的端面進行研磨的處理。
6.如權利要求5所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板為磁盤用玻璃基板。
7.一種玻璃基板的制造方法，其中，所述制造方法包括下述處理：使用權利要求1～4中任一項所述的研磨液對所述基板的主表面進行研磨的處理。
8.如權利要求7所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板為磁盤用玻璃基板。
9.一種磁盤的制造方法，其包括下述處理：在利用權利要求6或8所述的玻璃基板的制造方法得到的所述磁盤用玻璃基板的主表面至少形成磁性層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于HOYA株式會社，未經HOYA株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111254736.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：軌道機器人的控制方法
- 下一篇：光學成像系統
