[發明專利]一種提高蝕刻過程中FPCB平整性的裝置及方法

有效

• 申請號: 202111245278.1
• 申請日: 2021-10-26
• 公開（公告）號: CN113692135B
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發明（設計）人: 李輝;聶思媛;盛家正;申勝男
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: H05K3/06
• 分類號: H05K3/06
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 楊宏偉

1.一種提高蝕刻過程中FPCB平整性的裝置，包括蝕刻裝置和用于輸送FPCB的卷對卷輸送裝置，所述卷對卷輸送裝置包括兩個拖料滾輪，其特征在于：兩個拖料滾輪之間設有輸送帶結構，所述輸送帶結構包括由若干鏈板首尾鉸接組成的環形輸送鏈和驅動環形輸送鏈循環輸送的兩個鏈板滾輪，兩個鏈板滾輪之間的上部輸送鏈形成水平方向輸送的加工支撐面，每個鏈板上表面為至少大于一個FPCB加工單元的平整平面，且每個鏈板上均設有將待加工FPCB吸附在其表面上的抽氣孔，所述抽氣孔通過感應裝置控制根據需要啟閉；所述蝕刻裝置設于加工支撐面上方，用于對已經吸附在鏈板上保持平整的FPCB進行蝕刻加工；

所述輸送帶結構上設有用于檢測其與卷對卷輸送裝置是否有速度差的差速檢測裝置；

所述FPCB兩側設有用于判斷位置的定位孔，所述鏈板上對應位置設有與定位孔位置對應的透光孔，所述差速檢測裝置包括設于輸送帶結構上方的檢測光源和設于每個鏈板底部透光孔處的光強傳感器，當光強傳感器檢測到透過定位孔和透光孔的光強度變化或者持續變化時，即表明輸送帶結構與卷對卷輸送裝置存在速度差，需要人工或者自動調整兩者速度為一致。

2.根據權利要求1所述提高蝕刻過程FPCB平整性的裝置，其特征在于：兩個拖料滾輪之間輸送的FPCB與輸送帶結構的加工支撐面平行且處于同一高度設置。

3.根據權利要求1所述提高蝕刻過程FPCB平整性的裝置，其特征在于：所述檢測光源為沿著FPCB輸送方向分布的線光源或者點光源，檢測光源間歇式開啟，開啟間隔與鏈板輸送間隔相同，所述光強傳感器為光敏電阻。

4.根據權利要求1-3任意一項所述提高蝕刻過程FPCB平整性的裝置，其特征在于：所述感應裝置包括設于每個鏈板上的感應開關和與感應開關對應的感應點，所述感應點包括啟動感應點和關閉感應點，分別設于加工支撐面的輸入端和輸出端。

5.根據權利要求4所述提高蝕刻過程FPCB平整性的裝置，其特征在于：所述感應開關為磁感應開關，所述感應點為通過支架安裝在加工支撐面上相應位置的磁體。

6.根據權利要求5所述提高蝕刻過程FPCB平整性的裝置，其特征在于：所述蝕刻裝置包括蝕刻液噴盤、設于蝕刻液噴盤底部的蝕刻液噴管和設于蝕刻液噴管下端的噴嘴，所述噴嘴位于輸送帶結構上方，且對準加工支撐面。

7.根據權利要求6所述提高蝕刻過程FPCB平整性的裝置，其特征在于：所述噴嘴有多個，且多個噴嘴在沿著FPCB輸送方向的間隔與鏈板的中心之間間隔相同。

8.一種提高蝕刻過程中FPCB平整性的方法，采用權利要求1-7任意一項所述的裝置，其特征在于，包括以下步驟：

S1：待加工FPCB通過卷對卷輸送裝置移動至輸送帶結構上，與環形輸送鏈上部的鏈板接觸，當通過感應裝置監測到與FPCB接觸的鏈板移動到加工支撐面的入口端時，打開該鏈板上的抽氣孔，將該FPCB緊壓在鏈板上表面，保證FPCB的平整；

S2：當已經抽氣吸附FPCB的鏈板移動到蝕刻裝置下方時，蝕刻裝置對經過其下方保持平整的FPCB噴淋蝕刻液，完成蝕刻；

S3：當吸附有蝕刻結束的FPCB的鏈板移動到加工支撐面的出口端時，關閉該鏈板上的抽氣孔，將該FPCB與鏈板分離，卷對卷輸送裝置和輸送帶結構保持相同速度持續輸送FPCB，FPCB與鏈板在加工支撐面的入口端和出口端持續吸附和分離，進行連續生產。