[發(fā)明專利]一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111238152.1 | 申請日: | 2021-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN114023636A | 公開(公告)日: | 2022-02-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 歐文凱;董思敏;向亮睿 | 申請(專利權)人: | 普樂新能源科技(徐州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/223 | 分類號: | H01L21/223;H01L21/228;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京喆翙知識產權代理有限公司 11616 | 代理人: | 梁永昌 |
| 地址: | 221000 江蘇省徐州市高新技*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 se 結構 高效 topcon 電池 制作方法 | ||
1.一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,采用硼擴輕摻雜與絲網印刷硼漿重摻雜的相結合的制作方法,使得該電池正面結構使得非印刷區(qū)為輕摻高方阻,提高光線的短波響應,同時絲網印刷區(qū)為重摻低方阻,減少前金屬電極的接觸電阻,使得短路電流和填充因子都得到較好的改善,從而提高轉換效率。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,所述N型硅片作為襯底材料,通過清洗制絨使硅片表面產生金字塔狀表面結構,反射率不超過10%。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,所述硼擴輕摻雜區(qū)擴散方阻控制在120ohm/squ~160ohm/squ。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,所述背面拋光后反射率>30%。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,所述隧穿氧化層厚度在1nm-2nm。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,激光開槽后硅片進行硼漿印刷并烘干,硼漿印刷圖形與絲網印刷圖形一致。
7.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,硼漿印刷后硅片進行退火,退火溫度在900℃-1000℃,時間保持在20min-60min。
8.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于,退火激活磷摻雜及形成硼擴SE結構,在重摻雜區(qū)域的方阻控制在70ohm/squ~90ohm/squ。
9.根據(jù)權利要求1所述的一種硼擴SE結構的高效N型TOPCon電池制作方法,其特征在于:硼擴輕摻雜硼源為BBr3/BCl3蒸汽。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





