[發明專利]一種抑制G?rtler渦二次失穩的裝置及方法及存儲介質

有效

• 申請號: 202111230441.7
• 申請日: 2021-10-22
• 公開（公告）號: CN113704895B
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發明（設計）人: 黃剛雷;陳曦;陳堅強;袁先旭;涂國華
• 申請（專利權）人: 中國空氣動力研究與發展中心計算空氣動力研究所
• 主分類號: G06F30/15
• 分類號: G06F30/15;G06F30/28
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214
• 代理人: 劉世權

1.一種抑制渦二次失穩的裝置，其特征在于，包括：用于形成渦的曲面實驗模型，所述曲面實驗模型包括平面部分和曲面部分，所述曲面部分出現渦二次失穩對應的位置處設置有用于抑制渦二次失穩模態增長的溝槽，且所述溝槽順著流體的流向布置，直至曲面實驗模型的末端，溝槽展向分布滿足正弦函數；所述溝槽的展向波長為2-5mm，所述溝槽的深度為1-3mm。

2.根據權利要求1所述的一種抑制渦二次失穩的裝置，其特征在于，所述溝槽的展向波長為3mm。

3.根據權利要求1所述的一種抑制渦二次失穩的裝置，其特征在于，所述溝槽的深度為2mm。

4.根據權利要求1所述的一種抑制渦二次失穩的裝置，其特征在于，所述曲面實驗模型選用不銹鋼或者塑料制成。

5.根據權利要求1所述的一種抑制渦二次失穩的裝置，其特征在于，所述溝槽采用銑刀或者車床或者3D打印的方式設置在所述曲面模型上。

6.一種抑制渦二次失穩的方法，其特征在于，包括：

將曲面實驗模型放置在流體中，流體經過曲面實驗模型后，在曲面實驗模型上形成渦；

當曲面實驗模型上的渦出現二次失穩時，在渦出現二次失穩對應的曲面實驗模型上的位置設置向后延伸的溝槽，并將溝槽順著流體的流向設置，溝槽展向分布滿足正弦函數；設置的所述溝槽的展向波長為2-5mm，所述溝槽的深度為1-3mm。

7.根據權利要求6所述的一種抑制渦二次失穩的方法，其特征在于，所述曲面實驗模型選用不銹鋼或者塑料制成。

8.一種存儲介質，其特征在于，所述存儲介質上存儲有計算機指令，所述計算機指令在計算機上運行時，使得所述計算機執行如權利要求6-7任一所述的方法。