[發(fā)明專利]反應(yīng)堆及其堆芯熔融物收集裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111230209.3 | 申請日: | 2021-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN114005555A | 公開(公告)日: | 2022-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉兆陽;孫剛;鄧夏;夏宇;孫帥;高付海;王明政;吳水金;楊孔靂;張東輝;張?zhí)硪?/a>;曾曉佳;曹永剛;薛方元;張熙司;郭忠孝;胡文軍 | 申請(專利權(quán))人: | 中國原子能科學(xué)研究院 |
| 主分類號: | G21C9/016 | 分類號: | G21C9/016 |
| 代理公司: | 北京市創(chuàng)世宏景專利商標代理有限責(zé)任公司 11493 | 代理人: | 劉向輝 |
| 地址: | 102413 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反應(yīng)堆 及其 熔融 收集 裝置 | ||
本申請實施例公開了一種反應(yīng)堆及其堆芯熔融物收集裝置。堆芯熔融物收集裝置包括:支撐架和托盤。支撐架包括支撐底板以及自所述支撐底板的周緣向上延伸的外側(cè)圍擋,所述支撐底板設(shè)有用于供冷卻劑流入的冷卻劑入口。托盤設(shè)置于所述支撐架內(nèi),所述托盤包括:底盤和自所述底盤的周緣向上延伸的內(nèi)側(cè)圍擋,所述內(nèi)側(cè)圍擋與所述外側(cè)圍擋之間形成環(huán)形間隙;其中,所述底盤上開設(shè)有多個第一通孔,用于供進入所述支撐架內(nèi)的部分冷卻劑經(jīng)由所述第一通孔直接流入所述底盤的上表面。本申請的技術(shù)方案能夠在發(fā)生堆芯熔化事故時,快速降低堆芯熔融物的溫度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及核反應(yīng)堆技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種反應(yīng)堆及其堆芯熔融物收集裝置。
背景技術(shù)
為了防止當(dāng)發(fā)生堆芯熔化嚴重事故時,熔融物掉落到壓力容器將壓力容器熔穿,相關(guān)技術(shù)中在堆芯下方設(shè)置堆芯熔融物收集裝置,用來接收堆芯熔融物。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例的第一方面提供了一種堆芯熔融物收集裝置,包括:
支撐架,包括支撐底板以及自所述支撐底板的周緣向上延伸的外側(cè)圍擋,所述支撐底板設(shè)有用于供冷卻劑流入的冷卻劑入口;和
托盤,設(shè)置于所述支撐架內(nèi),所述托盤包括:底盤和自所述底盤的周緣向上延伸的內(nèi)側(cè)圍擋,所述內(nèi)側(cè)圍擋與所述外側(cè)圍擋之間形成環(huán)形間隙;
其中,所述底盤上開設(shè)有多個第一通孔,用于供進入所述支撐架內(nèi)的部分冷卻劑經(jīng)由所述第一通孔直接流入所述底盤的上表面。
本申請實施例的第二方面提供了一種反應(yīng)堆,包括:
壓力容器本體,其中容納有冷卻劑;
壓力容器頂蓋,與所述壓力容器本體共同形成所述反應(yīng)堆的壓力容器;
堆芯組件,設(shè)于所述壓力容器內(nèi);
如本申請實施例第一方面的堆芯熔融物收集裝置,設(shè)于所述堆芯組件的下方。
附圖說明
通過下文中參照附圖對本發(fā)明所作的描述,本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點將顯而易見,并可幫助對本發(fā)明有全面的理解。
圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的反應(yīng)堆的示意性原理圖;
圖2是圖1所示堆芯熔融物收集裝置的結(jié)構(gòu)圖;
圖3是圖2所示堆芯熔融物收集裝置的剖視圖;
圖4是圖2所示堆芯熔融物收集裝置中支撐架的俯視圖;
圖5是圖2中所示托盤的結(jié)構(gòu)圖,圖中省略了保護層和煙囪結(jié)構(gòu);
圖6是圖5所示托盤的俯視圖;以及
圖7是圖2所示堆芯熔融物收集裝置中托盤的剖視圖。
附圖中:
11、壓力容器本體;12、壓力容器頂蓋;
20、堆芯熔融物收集裝置;21、支撐架;211、支撐底板;2111、冷卻劑入口;2112、肋板;21121、凸臺;212、外側(cè)圍擋;2121、開槽;22、托盤;221、底盤;2211、第一通孔;2212、第二通孔;222、內(nèi)側(cè)圍擋;223、煙囪結(jié)構(gòu);2231、筒體;2232、頂蓋;224、保護層;2241、面板;23、環(huán)形間隙;30、堆芯組件;40、動力泵;50、熱交換器;60、旋塞。
應(yīng)該注意的是,附圖并未按比例繪制,并且出于說明目的,在整個附圖中類似結(jié)構(gòu)或功能的元素通常用類似的附圖標記來表示。還應(yīng)該注意的是,附圖只是為了便于描述優(yōu)選實施例,而不是本發(fā)明本身。附圖沒有示出所描述的實施例的每個方面,并且不限制本發(fā)明的范圍。
具體實施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國原子能科學(xué)研究院,未經(jīng)中國原子能科學(xué)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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