[發(fā)明專利]呼吸輔助設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111225809.0
• 申請日: 2016-06-24
• 公開（公告）號: CN114146272A
• 公開（公告）日: 2022-03-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: A·范沙爾魁克;A·P·M·薩蒙;J·M·勞森;R·W·伯格斯;C·A·勞倫斯;R·A·米勒;D·A·巴克爾;P·G·霍金斯;E·M·邁澤爾;E·B·麥克奈特;K·P·奧唐內(nèi)爾;J·C·漢
• 申請（專利權(quán)）人: 費雪派克醫(yī)療保健有限公司
• 主分類號: A61M16/00
• 分類號: A61M16/00;A61M16/06;A61M16/08;A61M16/10;A61M16/16
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 林振波

1.一種用于遞送氣流的設(shè)備，該設(shè)備包括：

包括上底盤和下底盤的殼體，以及位于該上底盤與該下底盤之間的基本上連續(xù)的榫槽安排。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，榫槽安排在上底盤和下底盤的周邊周圍提供基本上連續(xù)的防液體和防氣流的聯(lián)接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，下底盤包括凹槽，上底盤包括構(gòu)造成至少部分接收在凹槽中的榫舌。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，下底盤包括榫舌，上底盤包括凹槽，榫舌構(gòu)造成至少部分接收在凹槽中。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，在殼體的后部部分中上底盤包括向下凸出的榫舌并且下底盤包括向上凸出的凹槽，在殼體的前部部分中上底盤包括向下凸出的凹槽并且下底盤包括向上凸出的榫舌。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的設(shè)備，其中，上底盤包括左側(cè)壁和右側(cè)壁，下底盤包括左側(cè)壁和右側(cè)壁，榫槽安排設(shè)置在上底盤的左側(cè)壁和右側(cè)壁與下底盤的左側(cè)壁和右側(cè)壁之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，上底盤包括后外壁和前唇緣，下底盤包括后外壁和前唇緣，榫槽安排設(shè)置在上底盤的后外壁和前唇緣與下底盤的后外壁和前唇緣之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，設(shè)備包括用于接收液體腔室的腔室底座，榫槽安排圍繞腔室底座的基本上整個周邊而設(shè)置在上底盤與下底盤之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，設(shè)備包括通信聯(lián)接部分，榫槽安排圍繞通信聯(lián)接部分的基本上整個周邊設(shè)置在通信聯(lián)接部分與上底盤和下底盤之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，設(shè)備包括具有斜切邊緣的至少一個榫槽。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，設(shè)備包括在榫舌的部分與凹槽的部分之間具有空間的至少一個榫槽安排。