[發明專利]光子晶體薄膜及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 202111222015.9
• 申請日: 2021-10-20
• 公開（公告）號: CN114031946B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 張建安;張孟;吳明元;吳慶云;楊建軍;劉久逸
• 申請（專利權）人: 安徽大學
• 主分類號: C08L87/00
• 分類號: C08L87/00;C08G81/02;C08J5/18
• 代理公司: 合肥天明專利事務所(普通合伙) 34115
• 代理人: 張夢媚

1.一種光子晶體薄膜，其特征在于，所述光子晶體薄膜由星狀嵌段聚合物β-CD-g-X-b-Y自組裝形成，所述星狀嵌段聚合物β-CD-g-X-b-Y采用原子轉移自由基聚合方法獲得，X、Y分別為第一聚合物和第二聚合物，其聚合度分別在10-700之間、20-1200之間，主鏈聚合度在30-1900之間；

其中，所述第一聚合物X選自PTMPM、PBA、PMMA、PDMAEMA、PAA或PBMA；所述第二聚合物Y選自PS、PBMA或PMMA。

2.如權利要求1所述的光子晶體薄膜在顏料、染料、光閥、電信纖維或涂料上的應用。

3.一種如權利要求1所述的光子晶體薄膜的制備方法，其特征在于，包括下列步驟：

提供引發劑21Br-β-CD；

將所述21Br-β-CD和第一聚合物X的單體經第一次原子轉移自由基聚合反應，獲得β-CD-g-X；

將所述β-CD-g-X作為大分子引發劑和第二聚合物Y的單體經第二次原子轉移自由基聚合反應，獲得星狀嵌段聚合物β-CD-g-X-b-Y；

所述β-CD-g-X-b-Y經旋涂制得光子晶體薄膜。

4.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述21Br-β-CD的制備方法為；將干燥后的β-CD和2-溴異丁酰溴混合反應，制得21Br-β-CD。

5.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述第一次原子轉移自由基聚合反應的步驟，具體為：將21Br-β-CD、第一聚合物X的單體、第一催化劑和第一配體置于第一有機溶劑中，密封反應后，獲得β-CD-g-X；

所述第二次原子轉移自由基聚合反應的步驟，具體為：將β-CD-g-X、第二聚合物Y的單體、第二催化劑和第二配體置于第二有機溶劑中，密封反應后，獲得星狀嵌段聚合物β-CD-g-X-b-Y。

6.如權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述光子晶體薄膜制備的步驟，具體為：將β-CD-g-X-b-Y溶液，置于玻璃瓶中，以1000-5000?rpm轉速高速旋涂，制得長程有序的光子晶體薄膜。