[發(fā)明專利]滿足超低排放的后處理系統(tǒng)的控制方法及裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111196129.0
• 申請(qǐng)日: 2021-10-14
• 公開（公告）號(hào): CN113738483A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 苗壘;陳正國(guó);張輝;侯淑娟;陳超
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無(wú)錫威孚力達(dá)催化凈化器有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): F01N9/00
• 分類號(hào): F01N9/00;F01N3/20;F01N3/035;F01N3/28;F01N3/10
• 代理公司: 無(wú)錫承果知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32373
• 代理人: 張亮

1.一種滿足超低排放的后處理系統(tǒng)的控制方法，其特征在于，所述方法應(yīng)用于滿足超低排放的后處理系統(tǒng)的終端設(shè)備當(dāng)中，所述后處理系統(tǒng)包括加熱器、反應(yīng)模塊、介質(zhì)輸入模塊以及終端設(shè)備；所述加熱器以及所述介質(zhì)輸入模塊均與所述反應(yīng)模塊連接，且所述反應(yīng)模塊、所述介質(zhì)輸入模塊以及所述加熱器分別與所述終端設(shè)備連接，所述終端設(shè)備用于對(duì)所述反應(yīng)模塊、所述介質(zhì)輸入模塊以及所述加熱器進(jìn)行控制以及數(shù)據(jù)交互；

所述加熱器連接于所述反應(yīng)模塊之前；

所述反應(yīng)模塊中包括依次連接的氧化催化裝置DOC、催化涂層覆蓋的催化型顆粒捕集裝置SCRF、選擇性催化還原裝置SCR以及氨逃逸催化裝置ASC；

所述介質(zhì)輸入模塊包括第一噴嘴以及第二噴嘴，所述第一噴嘴的介質(zhì)輸出端與所述SCRF的介質(zhì)輸入端連接，所述第二噴嘴的介質(zhì)輸出端與所述SCR的介質(zhì)輸入端連接；

所述方法包括：

獲取進(jìn)氣工況，所述進(jìn)氣工況包括進(jìn)氣溫度以及排氣流量；

對(duì)所述反應(yīng)模塊中的待測(cè)溫度點(diǎn)進(jìn)行溫度監(jiān)控，得到與所述SCR入口對(duì)應(yīng)的SCR入口溫度以及與所述SCRF的入口對(duì)應(yīng)的SCRF入口溫度；

對(duì)所述SCRF入口處的氣體進(jìn)行氮氧化物含量監(jiān)控，得到SCRF入口氮氧化物含量；

對(duì)所述SCR出口處的氣體進(jìn)行氮氧化物含量監(jiān)控，得到SCR出口氮氧化物含量；

基于所述進(jìn)氣工況對(duì)所述加熱器進(jìn)行控制；

基于所述SCRF入口氮氧化物含量以及所述SCRF入口溫度、所述排氣流量對(duì)所述第一噴嘴的噴射量進(jìn)行控制；

基于所述SCR出口氮氧化物含量以及所述SCR入口溫度、所述排氣流量、氮氧化物含量對(duì)所述第二噴嘴的噴射量進(jìn)行控制。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述進(jìn)氣工況包括進(jìn)入所述加熱器的加熱器進(jìn)口溫度以及加熱器進(jìn)口流量；

所述基于所述進(jìn)氣工況對(duì)所述加熱器進(jìn)行控制，包括：

基于所述加熱器進(jìn)口溫度以及所述加熱器介質(zhì)流量確定所述加熱器的預(yù)設(shè)工作占空比；

確定與所述預(yù)設(shè)工作占空比對(duì)應(yīng)的占空比閉環(huán)調(diào)節(jié)系數(shù)；

基于所述閉環(huán)調(diào)節(jié)系數(shù)以及所述預(yù)設(shè)工作占空比確定所述加熱器的實(shí)際工作占空比；

基于所述加熱器的實(shí)際工作占空比對(duì)所述加熱器進(jìn)行調(diào)節(jié)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述確定與所述預(yù)設(shè)工作占空比對(duì)應(yīng)的占空比閉環(huán)調(diào)節(jié)系數(shù)，包括：

根據(jù)流量-出口溫度對(duì)應(yīng)關(guān)系，基于所述加熱器介質(zhì)流量確定所述加熱器出口理論目標(biāo)溫度；

基于所述加熱器出口理論溫度與加熱器出口溫度確定所述占空比閉環(huán)調(diào)節(jié)系數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，基于所述SCRF入口氮氧化物含量以及所述SCRF入口溫度、所述排氣流量對(duì)所述第一噴嘴的噴射量進(jìn)行控制，包括：

基于所述SCRF入口氮氧化物含量、所述排氣流量以及所述SCRF入口溫度，建立SCRF開環(huán)控制模型、氨氣存儲(chǔ)閉環(huán)控制模型以及SCRF化學(xué)反應(yīng)模型；

通過所述SCRF開環(huán)控制模型、所述氨氣存儲(chǔ)閉環(huán)控制模型以及所述SCRF化學(xué)反應(yīng)模型確定對(duì)所述第一噴嘴的噴射量進(jìn)行控制。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于所述SCRF開環(huán)控制模型、所述氮?dú)獯鎯?chǔ)閉環(huán)控制模型以及所述SCRF化學(xué)反應(yīng)模型確定對(duì)所述第一噴嘴的噴射量進(jìn)行控制，包括：

基于所述SCRF開環(huán)控制模型確定預(yù)設(shè)第一噴嘴噴射量；

基于所述氨氣存儲(chǔ)閉環(huán)控制模型以及所述SCRF化學(xué)反應(yīng)模型確定SCRF閉環(huán)系數(shù)；

通過所述SCRF閉環(huán)系數(shù)對(duì)所述預(yù)設(shè)第一噴嘴噴射量進(jìn)行調(diào)整，并基于調(diào)整結(jié)果對(duì)所述第一噴嘴的噴射量進(jìn)行控制。