[發明專利]一種靶材組件及靶材組件制作方法

在審

• 申請號: 202111183200.1
• 申請日: 2021-10-11
• 公開（公告）號: CN113897572A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;王少平
• 申請（專利權）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23C4/02
• 分類號: C23C4/02;C23C4/08;C23C4/06;C23C14/35;C23C14/32;B24C1/06
• 代理公司: 杭州五洲普華專利代理事務所(特殊普通合伙) 33260
• 代理人: 姚宇吉

1.一種靶材組件制作方法，其特征在于，包括：

提供靶材組件，所述靶材組件包括靶材和靶材背板，所述靶材的結合面與靶材背板相結合,且所述靶材濺射面邊緣具有圓弧形倒角和位于圓弧形倒角下側的向內凹陷斜面；

對所述靶材邊緣和靶材背板靠近所述連接處位置進行噴砂處理，在靶材邊緣形成噴砂區，所述噴砂區的位置從圓弧形倒角頂端到靶材與靶材背板的連接處，且在靶材背板靠近所述連接處位置也形成噴砂區；

對靶材邊緣向內凹陷斜面的噴砂區和靶材背板靠近所述連接處位置進行熔射處理，形成熔射層。

2.根據權利要求1所述的靶材組件制作方法，其特征在于，所述圓弧形倒角的半徑為2mm～4mm。

3.根據權利要求1所述的靶材組件制作方法，其特征在于，所述靶材為鈦靶材或鉭靶材。

4.根據權利要求1所述的靶材組件制作方法，其特征在于，所述熔射層的上邊緣接近圓弧形倒角，使得靶材邊緣整個向內凹陷斜面均覆蓋熔射層。

5.根據權利要求1所述的靶材組件制作方法，其特征在于，所述噴砂區所形成的表面粗糙度為5μm～10μm，所述噴砂處理具體工藝包括：所噴砂粒為白剛玉，噴砂機空氣壓強范圍控制在0.441MPa～0.539MPa，噴砂槍槍嘴至靶材表面的距離范圍為150mm～200mm，噴砂槍噴嘴所噴砂粒所作的直線運動方向和靶材表面呈40°～70°范圍的夾角。

6.根據權利要求5所述的靶材組件制作方法，其特征在于，對濺射面邊緣圓弧區噴砂具體工藝包括：噴砂槍與靶材表面呈50°～70°范圍的夾角，噴砂時噴嘴做小幅度勻速擺動，保證圓弧區表面均勻噴砂。

7.根據權利要求1所述的靶材組件制作方法，其特征在于，所述熔射層為10μm～22μm的均勻鋁膜層，所述熔射處理的具體工藝包括：所述熔射處理的熔射粉末為鋁粉末，供給量設定為40～150g/min，所述熔射處理的溫度控制在1200℃～1350℃，所述熔射處理的熔射距離為60mm～300mm。

8.一種靶材組件，其特征在于，包括：

靶材和靶材背板，所述靶材與靶材背板相結合,且所述靶材邊緣具有圓弧形倒角和位于圓弧形倒角下側的向內凹陷斜面；所述靶材邊緣圓弧形倒角形成有噴砂區；所述靶材邊緣向內凹陷斜面和靶材背板靠近所述連接處位置形成有熔射層。

9.根據權利要求8所述的靶材組件，其特征在于，所述圓弧形倒角的半徑為2mm～4mm。

10.根據權利要求8所述的靶材組件，其特征在于，所述熔射層的上邊緣接近圓弧形倒角，使得靶材邊緣整個向內凹陷斜面均覆蓋熔射層。