[發(fā)明專利]濕涂層面密度測(cè)量方法及測(cè)量系統(tǒng)、電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111182590.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-10-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113959899B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張孝平;丁德甲;喬中濤;姜志騏;黃哲宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州市大成真空技術(shù)有限公司;深圳市大成精密設(shè)備股份有限公司;東莞市大成智能裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N9/00 | 分類號(hào): | G01N9/00 |
| 代理公司: | 深圳市聯(lián)鼎知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44232 | 代理人: | 王丹 |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 涂層 密度 測(cè)量方法 測(cè)量 系統(tǒng) 電子設(shè)備 | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N濕涂層面密度測(cè)量方法及測(cè)量系統(tǒng)、電子設(shè)備。濕涂層干燥后變成干涂層;該方法包括:獲取干涂層對(duì)應(yīng)的干涂層樣本的面密度及厚度,計(jì)算出干涂層樣本的體密度;獲取濕涂層的厚度,結(jié)合干涂層樣本的體密度,估算出濕涂層干燥后的面密度。本申請(qǐng)實(shí)現(xiàn)了對(duì)濕涂層干燥后所形成的干涂層的面密度的估算。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及膜類測(cè)量領(lǐng)域,特別涉及一種濕涂層面密度測(cè)量方法及測(cè)量系統(tǒng)、電子設(shè)備。
背景技術(shù)
鋰電池生產(chǎn)中,為了檢測(cè)涂布質(zhì)量,在涂布之后,需要對(duì)濕涂層的面密度進(jìn)行檢測(cè),所謂“濕涂層”即含水量超出設(shè)計(jì)值的涂層,對(duì)應(yīng)的含水量達(dá)到設(shè)計(jì)值的涂層為“干涂層”;但涂布之后,集流體上的濕涂層含有較多的水分,水分的存在使?jié)裢繉拥拿婷芏绕螅译S著水分的蒸發(fā),濕涂層的面密度也在一直變化;目前情況下,難以測(cè)得濕涂層面密度的準(zhǔn)確值,也難以測(cè)得濕涂層面密度的穩(wěn)定值,測(cè)量到的面密度值更難以反映其干燥后的狀態(tài)。
在所述背景技術(shù)部分公開的上述信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本申請(qǐng)的背景的理解,因此它可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)的一個(gè)目的在于提出一種用于測(cè)量濕涂層面密度的方法。
為解決上述技術(shù)問題,本申請(qǐng)采用如下技術(shù)方案:
根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)方面,本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N干涂層的密度估算方法,所述電池極片包括基體以及覆于所述基體表面上的薄膜層;所述方法包括:
一種濕涂層面密度測(cè)量方法,其中,所述濕涂層干燥后變成干涂層;所述方法包括:
獲取所述干涂層對(duì)應(yīng)的干涂層樣本的面密度及厚度,計(jì)算出所述干涂層樣本的體密度;
獲取所述濕涂層的厚度,結(jié)合所述干涂層樣本的體密度,估算出所述濕涂層干燥后的面密度。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例,電池的干極片樣本包括基體樣本以及涂覆于所述基體樣本上的所述干涂層樣本;所述電池的濕極片包括基體以及涂覆于所述基體上的濕涂層;所述方法包括:
獲取所述基體樣本的面密度和厚度;
獲取所述干極片樣本的厚度和面密度;
計(jì)算出所述干涂層樣本的面密度和厚度,以及所述干涂層樣本的體密度;
獲取所述濕極片的厚度;
結(jié)合所述基體的厚度計(jì)算出所述濕涂層的厚度;
再結(jié)合所述干涂層樣本的體密度,估算出所述濕涂層干燥后的面密度。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例獲取所述干涂層樣本上多個(gè)區(qū)域的面密度值,計(jì)算出所述干涂層樣本的面密度均值。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例獲取所述干涂層樣本上多個(gè)區(qū)域的厚度,計(jì)算出所述干涂層樣本的厚度均值。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例獲取所述干涂層樣本上多個(gè)區(qū)域的面密度和厚度,計(jì)算出每個(gè)區(qū)域的體密度;
再根據(jù)所述干涂層樣本中每個(gè)區(qū)域的體密度,計(jì)算出所述多個(gè)區(qū)域的體密度的均值,以作為所述干涂層樣本的體密度。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例獲取所述干極片樣本中多個(gè)區(qū)域的厚度,計(jì)算出所述多個(gè)區(qū)域的厚度均值,以作為所述干極片樣本的厚度。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例獲取所述干極片樣本中多個(gè)區(qū)域的面密度,計(jì)算出所述多個(gè)區(qū)域的面密度均值,以作為所述干極片的面密度。
根據(jù)本申請(qǐng)一實(shí)施例獲取所述干極片樣本中多個(gè)區(qū)域的面密度和厚度,再根據(jù)所述基體樣本的面密度和厚度,計(jì)算出所述干涂層樣本每個(gè)區(qū)域的體密度,再根據(jù)每個(gè)區(qū)域的體密度,計(jì)算出所述多個(gè)區(qū)域的體密度的均值,以作為所述干涂層樣本的體密度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于常州市大成真空技術(shù)有限公司;深圳市大成精密設(shè)備股份有限公司;東莞市大成智能裝備有限公司,未經(jīng)常州市大成真空技術(shù)有限公司;深圳市大成精密設(shè)備股份有限公司;東莞市大成智能裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111182590.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種對(duì)H型鋼形位變形量的測(cè)量裝置及其測(cè)量方法
- 用于測(cè)量電容的方法
- 車距測(cè)量方法及裝置、車輛相對(duì)速度測(cè)量方法及裝置
- 一種長波ASF測(cè)量方法
- 輸電桿塔基礎(chǔ)地基破裂面的簡(jiǎn)易測(cè)量方法
- 墨滴體積的校準(zhǔn)方法及其校準(zhǔn)系統(tǒng)、打印設(shè)備
- 車距測(cè)量方法及裝置、車輛相對(duì)速度測(cè)量方法及裝置
- 金屬鍍層厚度的測(cè)量方法
- 聲波測(cè)量裝置及聲波測(cè)量裝置的工作方法
- 一種鋼-混組合結(jié)構(gòu)相對(duì)滑移量測(cè)量裝置及測(cè)量方法
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備





