[發明專利]一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備

在審

• 申請號: 202111178475.6
• 申請日: 2021-10-10
• 公開（公告）號: CN113774350A
• 公開（公告）日: 2021-12-10
• 發明（設計）人: 張松林;張斌
• 申請（專利權）人: 成都超邁光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/52;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種膜層沉積腔室，內部適于通過載板(1)并對載板(1)上的工件進行成膜，其特征在于，還包括殼體(2)、觀察窗(3)和擋板(4)；

所述殼體(2)上設置有所述觀察窗(3)，所述觀察窗(3)用于提供觀察所述載板(1)的窗口，所述殼體(2)的內部和外部均設置有所述擋板(4)，所述擋板(4)用于遮擋所述觀察窗(3)，所述擋板(4)包括第一擋板(41)和第二擋板(42)，所述第一擋板(41)可移動的設置于所述外殼(1)的內部，所述第二擋板(42)鉸接于所述觀察窗(3)的外部；

所述第一擋板(41)與所述殼體(2)之間設置有驅動機構(5)，所述驅動機構(5)用于使所述第一擋板(41)位移，所述殼體(2)的內部還設置有清理機構(6)；

所述清理機構(6)包括清潔板(61)，所述清潔板(61)的一端于所述第一擋板(41)固定連接，所述清潔板(61)的另一端與所述觀察窗(3)的內壁接觸。

2.根據權利要求1所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述驅動機構(5)包括滑道(51)、滑塊(52)、電動推桿(53)，所述殼體(2)的內部設置有所述滑道(51)，所述滑道(51)上滑動設置有滑塊(52)，所述滑塊(52)與所述第一擋板(41)固定連接，所述殼體(52)的內部設置有所述電動推桿(53)，所述電動推桿(53)用于使所述第一擋板(41)沿所述滑道(51)滑動。

3.根據權利要求2所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述殼體(2)的內壁設置有支撐架(7)，所述殼體(2)通過所述支撐架(7)與所述電動推桿(53)固定連接。

4.根據權利要求1所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述清理機構(6)還包括吸氣裝置(62)、主管道(63)、分流管(64)和收集端口(65)，所述殼體(2)的外部設置有所述吸氣裝置(62)，所述主管道(63)的一端于所述吸氣裝置(62)連通，所述主管道(63)的另一端延伸至所述殼體(2)的內部，延伸至所述殼體(2)內的所述主管道(63)分別與所述分流管(64)的一端連通，所述分流管(64)的一端延伸至所述收集端口(65)的內部。

5.根據權利要求4所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述收集端口(65)為兩端設置有開口，中部為空腔的殼體結構，所述收集端口(65)其中一個開口于所述分流管(64)連通，所述收集端口(65)的另一端延伸至所述觀察窗(3)的一側。

6.根據權利要求5所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述主管道(63)與所述分流管(64)之間設置有連接通道(67)，所述連接通道(67)用于使所述主管道(63)與若干所述分流管(64)連通。

7.根據權利要求6所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述連接通道(67)的內部可拆卸設置有過濾網。

8.根據權利要求4所述的一種膜層沉積腔室及磁控濺射設備，其特征在于，所述主管道(63)上設置有控制閥(66)，所述控制閥(66)用于控制所述主管道(63)的通斷。

9.一種磁控濺射設備，其特征在于，包括權利要求1-9中任一項所述的膜層沉積腔室。