[發明專利]一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置

在審

• 申請號: 202111177255.1
• 申請日: 2021-10-09
• 公開（公告）號: CN113786249A
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 王旭東;何東明;江凌勇;孫昊;林開利;曹健;代杰文
• 申請（專利權）人: 上海交通大學醫學院附屬第九人民醫院
• 主分類號: A61C7/08
• 分類號: A61C7/08
• 代理公司: 上海劍秋知識產權代理有限公司 31382
• 代理人: 楊飛

1.一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，包括：

上頜矯治器；

下頜矯治器；

若干墊塊，若干所述墊塊位于所述上頜矯治器和所述下頜矯治器相向側，以使所述上頜矯治器與所述下頜矯治器存在咬合間隙；其中，

至少一所述墊塊沿咬合方向設置有導正結構，用于使所述上頜矯治器與所述下頜矯治器在咬合狀態下保持預設相對位置。

2.根據權利要求1所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

若干所述墊塊包括設置于所述上頜矯治器的上頜墊塊，以及設置于所述下頜矯治器的下頜墊塊；

所述上頜墊塊與所述下頜墊塊一一對應，且所述導正結構位于同組所述上頜墊塊與所述下頜墊塊之間。

3.根據權利要求2所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述導正結構包括設置于所述上頜墊塊的導滑槽，以及設置于所述下頜墊塊的導滑塊，所述導滑塊與所述導滑槽沿所述咬合方向相配合。

4.根據權利要求3所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述導滑塊具有朝向所述導滑槽底面的磨除面；

所述導滑塊端部至少包括依次重疊的第一指示層和第二指示層，所述第一指示層和所述第二指示層之間具有與所述磨除面相交的分界面，所述分界面與所述磨除面呈銳角。

5.根據權利要求4所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述第一指示層和所述第二指示層均呈楔形，且所述第一指示層和所述第二指示層具有不同顏色。

6.根據權利要求2所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述上頜矯治器和所述上頜墊塊為一體式結構，所述下頜矯治器和所述下頜墊塊為一體式結構。

7.根據權利要求3所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述上頜墊塊端部內凹，形成所述導滑槽；所述下頜墊塊端部中心突起形成與所述導滑槽相配合的所述導滑塊。

8.根據權利要求1所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述上頜矯治器和/或所述下頜矯治器為膜片。

9.根據權利要求1-8任一所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

若干所述墊塊間隔分布于所述上頜矯治器和/或所述下頜矯治器的磨牙及前磨牙處。

10.根據權利要求9所述的一種正頜術后無托槽隱形矯治垂直向控制裝置，其特征在于，

所述上頜矯治器和所述下頜矯治器左右兩側分別設置有至少兩組所述墊塊，且呈左右鏡像排布或非對稱排布。