[發(fā)明專利]一種鈦銀共摻雜CoSb3 在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111175217.2 | 申請日: | 2021-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN113903852A | 公開(公告)日: | 2022-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄭壯豪;鐘一鳴;范平;梁廣興;陳躍星 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳大學(xué) |
| 主分類號: | H01L35/18 | 分類號: | H01L35/18;H01L35/34;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司: | 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 劉芙蓉 |
| 地址: | 518060 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈦銀共 摻雜 cosb base sub | ||
本發(fā)明公開了一種鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜及其制備方法,所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜包括CoSb3薄膜,以及均勻分散于所述CoSb3薄膜上的Ti和Ag。本發(fā)明提供的鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜通過在CoSb3薄膜中摻雜銀和鈦組分,使得其熱電性能得到大幅度提升,并且通過對摻雜銀和鈦的組分的調(diào)控,可以實現(xiàn)對于最終薄膜的性能的調(diào)控,本發(fā)明的鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜薄膜質(zhì)量高,重復(fù)性好,可大面積生產(chǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及熱電材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜及其制備方法。
背景技術(shù)
近年來,制備微型及柔性器件用高質(zhì)量、環(huán)保型熱電薄膜材料,已經(jīng)逐漸成為熱電技術(shù)領(lǐng)域的熱點研究課題之一。由于目前所報道的環(huán)境友好型方鈷礦結(jié)構(gòu)CoSb3材料的熱電性能可與商用半導(dǎo)體熱電材料相比擬,具有廣闊的應(yīng)用前景,被廣泛的研究,其薄膜化的探索也有所報道,但已有的報道表明該材料的熱電性能遠未達到其塊體材料的性能,現(xiàn)有的薄膜化的CoSb3材料的熱電性能還有待提高。
因此,現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進和發(fā)展。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜及其制備方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中薄膜化的CoSb3材料的熱電性能遠未達到其塊體材料的性能的問題。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜,其中,包括CoSb3薄膜,以及均勻分散于所述CoSb3薄膜上的Ti和Ag。
如本發(fā)明所述的鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,包括步驟:
將Ti、Ag和CoSb3靶材安置在濺射系統(tǒng)的濺射靶位上;
在基底材料上進行Ti薄膜層的制備;
將Ag和CoSb3進行共濺射,制得所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,在所述將Ti、Ag和CoSb3靶材安置在濺射系統(tǒng)的濺射靶位上之前,包括:
對基底材料進行加熱處理。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述基底材料為玻璃或PI柔性材料中的一種。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述Ti的純度為99.99%。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述Ag的純度為99.99%。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述加熱處理的溫度為300-500℃。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述Ti薄膜層的厚度為0.01-10μm。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的厚度為0.1-10μm。
所述鈦銀共摻雜CoSb3熱電薄膜的制備方法,其中,所述濺射系統(tǒng)為磁控濺射鍍膜機。
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