[發明專利]一種用于水處理的電化學管式陶瓷膜及其制備方法和應用有效
| 申請號: | 202111169982.3 | 申請日: | 2021-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN114229962B | 公開(公告)日: | 2022-12-06 |
| 發明(設計)人: | 王志偉;李洋;戴若彬;吳志超 | 申請(專利權)人: | 同濟大學 |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461;C02F1/76;C02F1/44;B01D67/00;B01D69/02;C02F101/16;C02F101/30;C02F103/06 |
| 代理公司: | 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 余瑩 |
| 地址: | 200092 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 水處理 電化學 陶瓷膜 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種用于水處理的電化學管式陶瓷膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)鈦基底管式陶瓷膜的制備:將陶瓷膜清洗烘干后,放入磁控濺射儀中,在氬氣氛圍中沉積鈦,得到具有鈦導電層的鈦基底陶瓷膜;
2)電化學管式陶瓷膜的制備:將所述步驟1)制得的鈦基底管式陶瓷膜放入磁控濺射儀中,在氬氣氛圍中沉積銥,在所述步驟1)得到的鈦基底陶瓷膜的表面沉積得到銥活性層;將得到的管式膜洗凈烘干,即為所述用于水處理的電化學管式陶瓷膜;
其中,所述步驟1)中所采用的陶瓷膜的孔徑為1 ~ 5 μm;所沉積的鈦導電層的厚度為500 ~ 1000 nm,沉積速率為2 ~ 5 nm min-1;
所述步驟2)中所沉積的銥活性層的厚度為100 ~ 300 nm,沉積速率為1 ~ 5 nm min-1。
2.采用根據權利要求1所述制備方法制備得到的用于水處理的電化學管式陶瓷膜。
3.根據權利要求2所述的用于水處理的電化學管式陶瓷膜的應用,其特征在于,包括以下步驟:
a. 將所述電化學管式陶瓷膜直接連接陽極,采用銅網、鈦網或者不銹鋼絲網作為陰極;
b. 施加電壓,電化學管式陶瓷膜過濾垃圾滲濾液時進行電氧化反應,去除水中有機物和氨氮;
其中,所述步驟b的陽極施加的電流密度為5 ~ 25 mA cm-2,過濾的水通量為40 ~ 150L m-2 h-1;
所述垃圾滲濾液生化出水的COD濃度范圍為200 ~ 1000 mg L-1,氨氮濃度以N計為2 ~20 mg L-1。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于同濟大學,未經同濟大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111169982.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種防靜電式集成電路放置裝置
- 下一篇:島膜狀納米立方陣列結構的制備方法





