[發(fā)明專利]一種筆畫擦除方法、裝置、可讀存儲介質(zhì)及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111168375.5
• 申請日: 2021-10-08
• 公開（公告）號: CN113608646B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 廖林濤;朱增
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州文石信息科技有限公司
• 主分類號: G06F3/0481
• 分類號: G06F3/0481;G06F9/451
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 劉思言

1.一種筆畫擦除方法，其特征在于，包括以下步驟：

獲取筆畫軌跡和擦除軌跡，根據(jù)所述筆畫軌跡確定的筆畫區(qū)域和所述擦除軌跡確定的擦除區(qū)域確定待擦除筆畫；

利用映射表將所述待擦除筆畫分成若干個待擦除筆畫集合，所述映射表的鍵為待擦除筆畫軌跡點的哈希值，所述映射表的值為與鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合，所述映射表的鍵中的哈希值為與鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合中筆畫軌跡相交的軌跡點的哈希值；

利用映射表將所述待擦除筆畫分成若干個待擦除筆畫集合具體包括：

將哈希值相同的待擦除筆畫軌跡點所在的待擦除筆畫放在同一個待擦除筆畫集合中，同一個待擦除筆畫集合內(nèi)的待擦除筆畫在具有相同哈希值的待擦除筆畫軌跡點處疊加；

依次遍歷所述映射表的鍵，判斷所述擦除軌跡與當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合是否相交，若相交，將當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合中的所有筆畫標(biāo)記為相交筆畫；

移除所有的所述相交筆畫。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的筆畫擦除方法，其特征在于，判斷所述擦除軌跡與當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合是否相交包括：

獲取擦除軌跡上的點并計算擦除軌跡點的哈希值，當(dāng)所述擦除軌跡點的哈希值等于當(dāng)前鍵或者所述擦除軌跡點與當(dāng)前鍵對應(yīng)矩形塊中點的距離不大于預(yù)設(shè)閾值時，則所述擦除軌跡與當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合相交；

否則，重復(fù)執(zhí)行獲取擦除軌跡上的點并計算擦除軌跡點的哈希值的步驟直至最后一個擦除軌跡點，若最后一個擦除軌跡點的哈希值不等于當(dāng)前鍵而且最后一個擦除軌跡點與當(dāng)前鍵對應(yīng)矩形塊中點的距離大于預(yù)設(shè)閾值，則所述擦除軌跡與當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合不相交。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的筆畫擦除方法，其特征在于，所述待擦除筆畫軌跡點的哈希值為：

hash=floor(floor(x/blockSize1) * maxXY + y/blockSize2)；

其中，hash為待擦除筆畫軌跡點的哈希值，floor為向下取整函數(shù)，x、y分別為待擦除筆畫軌跡點的橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)，blockSize1、blockSize2分別為每塊矩形畫布的寬和高，maxXY為畫布寬高的最大值。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的筆畫擦除方法，其特征在于，所述當(dāng)前鍵對應(yīng)矩形塊中點為：

x7=x5 + floor(blockSize1/2)，

y7=y5 + floor(blockSize2/2)；

其中，x7、y7分別為當(dāng)前鍵對應(yīng)塊中點的橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)， x5、y5分別為當(dāng)前鍵對應(yīng)矩形塊的左上點的橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)，x5=(floor(hashCode/maxXY))*blockSize1，

y5=(hashCode mod maxXY)*blockSize2，blockSize1、blockSize2分別為每塊矩形畫布的寬和高，hashCode為當(dāng)前鍵，floor為向下取整函數(shù)，mod為取余數(shù)，maxXY為畫布寬高的最大值。

5.一種筆畫擦除裝置，其特征在于，包括：

待擦除筆畫確定模塊，用于獲取筆畫軌跡和擦除軌跡，根據(jù)所述筆畫軌跡確定的筆畫區(qū)域和所述擦除軌跡確定的擦除區(qū)域確定待擦除筆畫；

待擦除筆畫分組模塊，用于利用映射表將所述待擦除筆畫分成若干個待擦除筆畫集合，所述映射表的鍵為待擦除筆畫軌跡點的哈希值，所述映射表的值為與鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合，所述映射表的鍵中的哈希值為與鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合中筆畫軌跡相交的軌跡點的哈希值；

待擦除筆畫分組模塊利用映射表將所述待擦除筆畫分成若干個待擦除筆畫集合具體包括：

待擦除筆畫分組模塊將哈希值相同的待擦除筆畫軌跡點所在的待擦除筆畫放在同一個待擦除筆畫集合中，同一個待擦除筆畫集合內(nèi)的待擦除筆畫在具有相同哈希值的待擦除筆畫軌跡點處疊加；

相交筆畫確定模塊，用于依次遍歷所述映射表的鍵，判斷所述擦除軌跡與當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合是否相交，若相交，將當(dāng)前鍵對應(yīng)的待擦除筆畫集合中的所有筆畫標(biāo)記為相交筆畫；

相交筆畫移除模塊，用于移除所有的所述相交筆畫。