[發明專利]用于超表面加工的光刻系統及方法

在審

• 申請號: 202111166696.1
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN113791524A
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 郝成龍;譚鳳澤;朱健
• 申請（專利權）人: 深圳邁塔蘭斯科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 陳彥如

1.一種用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，包括光源(1)、曝光投影系統(2)和將光刻對象(4)的第一面和第二面對準的雙面標記對準系統，所述雙面標記對準系統包括準直光源(31)、顯微系統(32)、工作臺(33)及控制系統(34)，為了進行超表面的光刻系統的雙面曝光對準，所述光刻系統還包括：用于對所述光刻對象(4)做對準標記的標記單元(5)；

其中，所述工作臺(33)用于實現所述光刻對象(4)的移動和/或旋轉，所述工作臺(33)的精度為百納米至微米級精度；

所述光源(1)和所述曝光投影系統(2)配置成：在借助于所述雙面標記對準系統將所述光刻對象(4)對準的情況下，對所述光刻對象(4)分別進行第一面和第二面曝光。

2.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻機，其特征在于，所述光刻對象(4)包括平面光刻對象或非平面光刻對象。

3.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻機，其特征在于，所述非平面光刻對象包括階梯狀光刻對象。

4.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻機，其特征在于，所述標記單元(5)包括粗對準標記(51)和細對準標記(52)。

5.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述標記單元(5)的形狀包括十字形、梳子形、矩形、圓形和環形中的一種或多種。

6.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述標記單元(5)由對近紅外光不透明的材料制成。

7.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述準直光源(31)包括近紅外光LED和準直透鏡。

8.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，由所述準直光源(31)發射的輻射的波長對于所述光刻對象(4)的消光系數小于0.01，經過準直后，發散角應小于10°。

9.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，由所述準直光源(31)發射的輻射的波長對于玻璃晶圓材料的消光系數小于0.01，經過準直后，發散角應小于10°。

10.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，顯微系統(32)包括顯微物鏡(321)、連接管(322)及成像探測器(323)；

其中，所述顯微物鏡(321)和所述成像探測器(323)分別位于所述連接管(322)的兩端；所述連接管(322)的長度為顯微物鏡(321)的后截距。

11.如權利要求8所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述連接管(322)用于屏蔽環境光，以提高信噪比。

12.如權利要求8所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述顯微物鏡(321)對于所述準直光源(31)所發射的輻射的透過率大于80％。

13.如權利要求8所述的用于超表面加工的光刻機，其特征在于，所述連接管(322)上設有懸臂式固定結構支撐起整個所述顯微系統(32)。

14.如權利要求8所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述成像探測器(323)選用紅外光波段工作的探測器，且像素總數大于30萬。

15.如權利要求1所述的用于超表面加工的光刻系統，其特征在于，所述工作臺(33)包括位姿調節裝置(331)和載具(332)；

其中，所述載具(332)與所述位姿調節裝置(331)可拆卸地連接；所述載具(332)用于固定所述光刻對象(4)，所述位姿調節裝置(331)用于調節所述載具(332)的位置和/或姿態，以使所述光刻對象(4)的位置和/或姿態得到調節。