[發明專利]一種釹鐵硼磁體表面涂鍍層的退鍍液和退鍍方法及其應用

在審

• 申請號: 202111165915.4
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN113930768A
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發明（設計）人: 彭步莊;周彬;李雯;徐康文;李巖;紀芳
• 申請（專利權）人: 煙臺正海磁性材料股份有限公司
• 主分類號: C23F1/36
• 分類號: C23F1/36;C23F1/40;C09D9/00;C09D9/02
• 代理公司: 北京知元同創知識產權代理事務所(普通合伙) 11535
• 代理人: 劉元霞;張炳楠

1.一種退鍍液，其特征在于，所述退鍍液包括：

溶劑，選自水和與水互溶的有機溶劑；

溶質，所述溶質包括如下組分：

堿10～30g/L，

絡合劑2～6g/L，

緩蝕劑1～10g/L。

2.根據權利要求1所述的退鍍液，其特征在于，所述退鍍液中，與水互溶的有機溶劑的加入量為100-850mL/L。

優選地，所述與水互溶的有機溶劑選自氮氮二甲基甲酰胺、氮氮二甲基乙酰胺、乙二胺、乙二醇和乙二醇單丁酮中的一種或兩種以上的混合溶劑。

優選地，所述堿選自氫氧化鈉和/或氫氧化鉀。

3.根據權利要求1或2所述的退鍍液，其特征在于，所述絡合劑選自檸檬酸鈉、檸檬三銨或2-苯氧基乙醇中的至少一種。

示例性地，當所述絡合劑選自檸檬酸鈉時，濃度為2～5g/L。

示例性地，當所述絡合劑選自檸檬三銨時，濃度為4～6g/L。

示例性地，當所述絡合劑選自2-苯氧基乙醇時，濃度為3～6g/L。

4.根據權利要求1-3任一項所述的退鍍液，其特征在于，所述緩蝕劑選自亞硝酸鈉、硅酸鈉或硫脲中的至少一種。

示例性地，當所述緩蝕劑選自亞硝酸鈉時，濃度為5～10g/L。

示例性地，當所述緩蝕劑選自硅酸鈉時，濃度為4～8g/L。

示例性地，當所述緩蝕劑選自硫脲時，濃度為1～4g/L。

5.一種釹鐵硼磁體的退鍍方法，特別地，用于表面含有涂鍍層的釹鐵硼磁體的退鍍，其特征在于，所述退鍍方法包括以下步驟：

S1配制退鍍液：配制權利要求1-4任一項所述的退鍍液；

S2振動退鍍：將所述退鍍液和磨料放入容器中通過振動充分混合，再放入退鍍工件后進行振動退鍍。

6.根據權利要求5所述的退鍍方法，其特征在于，S2中，所述振動退鍍的條件包括：振動頻率為30-50Hz，振動退鍍時間為5-30min。

優選地，所述振動退鍍在5-40℃下進行。

優選地，所述容器的內襯選自PP、PVC或者PU中的至少一種，所述退鍍液、磨料和退鍍工件置于內襯中進行振動退鍍。優選地，所述振動退鍍在振動光飾機中進行。

優選地，所述磨料選自碳化硅和/或棕剛玉磨料。

優選地，所述磨料的裝載量占容器體積的40～85％，優選為60～85％。優選地，所述退鍍液與磨料的體積比為(0.1～0.2):1。

優選地，退鍍工件與磨料的質量比為1:(1～10)。

優選地，所述退鍍工件的表面含有以下至少一種涂鍍層：鍍鋁層、鍍鋅層、環氧層、酚醛樹脂層和鋁鋅錫復合層。

7.根據權利要求5或6所述的退鍍方法，其特征在于，所述退鍍方法還包括：S3振動清洗：完成振動退鍍后，回收退鍍液，加入水振動清洗磨料和退鍍工件。

優選地，所述退鍍方法還包括：S4篩分：將磨料和退鍍后的退鍍工件分離。

優選地，所述退鍍方法還包括：S5清洗烘干：將退鍍后的退鍍工件清洗、烘干。

優選地，采用超聲波或者媒介石振動干拋清洗。

8.權利要求1-4任一項所述的退鍍液和/或權利要求5-7任一項所述的退鍍方法在含有涂鍍層的釹鐵硼磁體退鍍中的應用。

優選地，所述涂鍍層選自鍍鋁層、鍍鋅層、環氧層、酚醛樹脂層或鋁鋅錫復合層中的至少一種。

9.一種釹鐵硼磁體，其特征在于，所述磁體采用權利要求1-4任一項所述的退鍍液和/或權利要求5-7任一項所述的退鍍方法經退鍍后得到。

優選地，所述磁體的平均磁通衰減率小于0.5％，優選為小于0.25％。

優選地，所述磁體的表面H含量小于15ppm。

10.權利要求9所述的釹鐵硼磁體在汽車、智電產品或電聲產品領域中的應用。