[發明專利]一種對激光雷達紅外光透過的啞黑鍍膜玻璃面板

有效

• 申請號: 202111165526.1
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN113800782B
• 公開（公告）日: 2023-07-21
• 發明（設計）人: 顏海平;聶均紅;王芳
• 申請（專利權）人: 臺州星星光電科技有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 臺州市方信知識產權代理有限公司 33263
• 代理人: 孫圣貴

1.一種對激光雷達紅外光透過的啞黑鍍膜玻璃面板，包括玻璃基板(1)，其特征在于，所述玻璃基板(1)的正面鍍設有AR增透鍍膜層一(2)，所述玻璃基板(1)的反面鍍設有對波長為800nm～1000nm的激光雷達紅外光透過且對可見光吸收的啞黑鍍膜層(3)，所述啞黑鍍膜層(3)的表面鍍設有AR增透鍍膜層二(4)，所述AR增透鍍膜層二(4)的表面鍍設有ITO鍍膜層(5)，所述啞黑鍍膜層(3)為SiO₂與SiH₄交替沉積鍍設而成的膜系結構；所述玻璃面板對激光雷達紅外光的透過率≥90％以上，且所述玻璃面板對可見光的反射率≤0.8％；所述啞黑鍍膜層(3)從位于玻璃基板(1)側向外依次包括以下厚度的膜系結構：

厚度為82nm～83nm的SiO₂鍍膜層一(301)、厚度為27.0nm～27.5nm的SiH₄鍍膜層一(302)、厚度為76nm～77nm的SiO₂鍍膜層二(303)、厚度為38.0nm～38.5nm的SiH₄鍍膜層二(304)、厚度為67nm～68nm的SiO₂鍍膜層三(305)、厚度為16.0nm～16.5nm的SiH₄鍍膜層三(306)、厚度為85nm～86nm的SiO₂鍍膜層四(307)、厚度為38nm～39nm的SiH₄鍍膜層四(308)、厚度為86nm～87nm的SiO₂鍍膜層五(309)、厚度為35nm～36nm的SiH₄鍍膜層五(310)、厚度為57nm～58nm的SiO₂鍍膜層六(311)、厚度為18.0nm～19nm的SiH₄鍍膜層六(312)、厚度為85nm～86nm的SiO₂鍍膜層七(313)、厚度為39nm～40nm的SiH₄鍍膜層七(314)、厚度為95nm～96nm的SiO₂鍍膜層八(315)、厚度為48nm～49nm的SiH₄鍍膜層八(316)、厚度為118nm～119nm的SiO₂鍍膜層九(317)、厚度為41nm～42nm的SiH₄鍍膜層九(318)、厚度為91nm～82nm的SiO₂鍍膜層十(319)、厚度為47nm～48nm的SiH₄鍍膜層十(320)、厚度為121nm～122nm的SiO₂鍍膜層十一(321)、厚度為41nm～42nm的SiH₄鍍膜層十一(322)、厚度為88nm～89nm的SiO₂鍍膜層十二(323)、厚度為35nm～36nm的SiH₄鍍膜層十二(324)和厚度為230nm～231nm的SiO₂鍍膜層十三(325)。

2.根據權利要求1所述對激光雷達紅外光透過的啞黑鍍膜玻璃面板，其特征在于，所述AR增透鍍膜層二(4)與ITO鍍膜層(5)之間還鍍設有納米級二氧化硅鍍膜層(6)。

3.根據權利要求1或2所述對激光雷達紅外光透過的啞黑鍍膜玻璃面板，其特征在于，所述ITO鍍膜層(5)采用氧化銦錫材料鍍設而成。

4.根據權利標1或2所述對激光雷達紅外光透過的啞黑鍍膜玻璃面板，其特征在于，所述啞黑鍍膜層(3)對波長為900nm～940nm的激光雷達紅外光透過。