[發明專利]一種耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜及其制備方法、應用在審
| 申請號: | 202111162413.6 | 申請日: | 2021-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN113943419A | 公開(公告)日: | 2022-01-18 |
| 發明(設計)人: | 張群;劉國隆;祝春才 | 申請(專利權)人: | 浙江中科玖源新材料有限公司 |
| 主分類號: | C08G73/10 | 分類號: | C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08;C08K5/18;C08K5/29 |
| 代理公司: | 合肥金律專利代理事務所(普通合伙) 34184 | 代理人: | 楊霞 |
| 地址: | 321100 浙江省金華*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 耐高溫 cte 聚酰亞胺 薄膜 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,其合成原料包括:二酐單體、二胺單體和交聯劑,其中,二胺單體包含吡啶類二胺單體;吡啶類二胺單體的結構如式(I)所示:
2.根據權利要求1所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,交聯劑為對氨基氯芐、二異氰酸酯中的至少一種。
3.根據權利要求2所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,二異氰酸酯為芳香族二異氰酸酯。
4.根據權利要求1-3任一項所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,吡啶類二胺單體占二胺單體總量的20-30mol%。
5.根據權利要求1-4任一項所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,二胺單體、交聯劑的摩爾比為1:0.2-0.3。
6.根據權利要求1-5任一項所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,二胺單體還包含以下物質中的至少一種:4,4'-二氨基二苯醚、3,4'-二氨基二苯醚、4,4'-二氨基二苯砜、3,3'-二氨基二苯砜、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二氨基聯苯、α,α'-雙(4-氨基苯基)-1,4-二異丙基苯、1,4-雙(2-三氟甲基4-氨基苯氧基)苯、1,3-雙(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯、1,4-雙(2-甲基-4-氨基苯氧基)苯、1,3-雙(2-甲基-4-氨基苯氧基)苯、4,4'-雙(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)聯苯、4,4'-雙(2-甲基-4-氨基苯氧基)聯苯、2,2’-雙[4-(4-氨基苯氧基苯基)]丙烷、2,2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-雙[4-(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(2-三氟甲基-4-氨基苯氧基)苯基]六氟丙烷和4,4’-雙(4-氨基苯氧基)二苯砜。
7.根據權利要求1-6任一項所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜,其特征在于,二酐單體為4,4'-(六氟異丙烯)二酞酸酐、4,4'-氧雙鄰苯二甲酸酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐、1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐中的至少一種。
8.一種如權利要求1-7任一項所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:在惰性氣體氛圍中,取二胺單體和二酐單體在有機溶劑中反應得到聚酰胺酸溶液,然后加入交聯劑繼續反應得到中間溶液;將中間溶液涂布在載體表面,亞胺化得到耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜。
9.根據權利要求8所述所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜的制備方法,其特征在于,于室溫繼續反應3-4h得到中間溶液。
10.一種如權利要求1-7任一項所述耐高溫低CTE聚酰亞胺薄膜作為光學膜的應用。
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