[發明專利]烹飪設備及烹飪設備的控制方法在審
| 申請號: | 202111162274.7 | 申請日: | 2021-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN115886586A | 公開(公告)日: | 2023-04-04 |
| 發明(設計)人: | 鄭博文;姚亮;許智波;王團;丁宏斌;肖伏鳳 | 申請(專利權)人: | 廣東美的生活電器制造有限公司 |
| 主分類號: | A47J37/06 | 分類號: | A47J37/06 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 瞿璨 |
| 地址: | 528311 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 烹飪 設備 控制 方法 | ||
本申請公開了烹飪設備及烹飪設備的控制方法,烹飪設備包括:烹飪器皿,設有出口;介質輸送系統,與出口相通,介質輸送系統適于向出口輸送介質;加熱結構,適于向介質輸送系統供熱,介質自出口排出以清洗烹飪器皿。本申請的介質輸送系統輸送介質,使得介質經過出口排出至烹飪器皿的表面,進而使得烹飪器皿上的食物殘渣、油污等在介質的作用下脫離烹飪器皿的表面,實現對烹飪器皿進行清洗或預清洗。同時,介質輸送系統進一步向介質傳熱,受熱后的介質更有利于溶解食物殘渣、油污等,使得本申請對于烤盤、烤箱、煎烤機這類重油污的烹飪設備具有更好的清洗效果,便于推廣。
技術領域
本申請涉及烹飪設備領域,具體涉及一種烹飪設備及一種烹飪設備的控制方法。
背景技術
現有技術的烹飪設備,例如煎烤機,食物在煎烤過程中所產生油、水蒸汽等容易發生飛濺,然后吸附在煎烤機的烤盤上,所以每次使用煎烤機后,都需要對烤盤進行仔細的清潔。
而受如煎烤機等烹飪設備的結構限制,用戶往往不能夠用水直接清洗烹飪設備,清洗操作難度大,烹飪設備內容易藏污納垢,滋生細菌。
發明內容
本申請的一個目的在于提出一種烹飪設備,旨在實現烹飪設備具有自動清洗烹飪器皿的功能,實現對烹飪器皿進行清洗或預清洗。
為解決上述技術問題,本申請采用如下技術方案:
本申請提出一種烹飪設備,包括:
烹飪器皿,設有出口;
介質輸送系統,與所述出口相通,所述介質輸送系統適于向所述出口輸送介質;
加熱結構,適于向所述介質輸送系統供熱,介質自所述出口排出以清洗所述烹飪器皿。
根據本申請一技術方案,所述烹飪器皿具有下表面,所述介質輸送系統位于所述下表面的下側并與所述下表面共同限定出受熱腔,至少部分所述加熱結構伸入所述受熱腔內。
根據本申請一技術方案,所述加熱結構具有第一發熱面和第二發熱面,所述第二發熱面沿所述第一發熱面的周向設置,其中,所述下表面與所述第一發熱面位置相對分布,所述介質輸送系統的部分結構與所述第二發熱面位置相對分布。
根據本申請一技術方案,所述烹飪器皿包括底壁和側壁,所述底壁和所述側壁彎曲過渡,所述底壁與所述第一發熱面位置相對分布,所述出口位于所述側壁上或所述底壁和所述側壁的過渡區域上。
根據本申請一技術方案,所述烹飪器皿包括一個或多個烤盤。
根據本申請一技術方案,多個所述烤盤至少包括第一烤盤和第二烤盤,所述第一烤盤位于所述第二烤盤的下方,且所述第一烤盤的開口與所述第二烤盤的開口相對設置。
根據本申請一技術方案,所述出口設于所述第一烤盤上。
根據本申請一技術方案,所述出口包括噴頭;和/或
所述介質輸送系統還包括驅動件,所述驅動件適于驅動介質自所述出口排出。
根據本申請一技術方案,所述烹飪設備還包括座體和蓋體,所述蓋體位于所述座體的上方并與所述座體轉動連接以打開或關閉所述座體,其中,所述第一烤盤可拆卸地設于所述座體上,所述第二烤盤設于所述蓋體上。
根據本申請一技術方案,所述介質輸送系統包括水箱,所述水箱設于所述座體內;和/或
所述第一烤盤和所述第二烤盤中的至少一個設有密封件,所述第一烤盤和所述第二烤盤通過所述密封件密封連接。
根據本申請一技術方案,所述烹飪設備還包括檢測結構,所述檢測結構適于響應清洗指令檢測所述蓋體的開閉,并根據檢測結果發出對應的提醒。
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