[發明專利]一種克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法及其應用

在審

• 申請號: 202111160623.1
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN113731490A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 逯子揚;顏歡;陳慧;周國生;宋旼珊;劉馨琳;李冰;任葉煒
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: B01J31/02
• 分類號: B01J31/02;B01J31/06;B01J35/00;C02F1/30;C02F101/38
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1.一種克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1：IL的合成：首先，將1,4-丁烷磺酸內酯與N-烯丙基咪唑混合攪拌，得到混合溶液A，加入乙醚A離心洗滌數次；隨后，在離心洗滌后得到的固體沉淀物中加入H₂SO₄，室溫下攪拌，得到混合溶液B，在混合溶液B中加入乙醚B進行攪拌洗滌，攪拌洗滌后混合溶液B出現分層，再將乙醚層去除，余下的混合物進行真空干燥得到最終樣品，記為IL；

步驟2：首先將P25、步驟1制備的IL、鹽酸左氧氟沙星依次加到去離子水中，室溫下進行第一次攪拌；再加入N′N-亞甲基雙丙烯酰胺和2,2′-偶氮二異庚腈進行第二次攪拌，混合均勻得到反應溶液，然后將反應溶液放入微波反應器中反應，反應后離心收集反應產物用甲醇反復洗滌數次；最后，經離心得到的樣品在光照下洗脫，經真空干燥即得到最終樣品，即為離子液體基印跡光催化納米反應器。

2.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，其特征在于，步驟1中，所述的1,4-丁烷磺酸內酯、1-烯丙基-1H-咪唑和H₂SO₄的用量比為0.11mol：0.10mol：0.10mol。

3.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，其特征在于，步驟1中，所述混合攪拌以及在室溫下攪拌的時間均為72h；所述洗滌的次數均為3次；所述混合溶液A與乙醚A的體積比為1:1-3；所述混合溶液B與乙醚B的體積比為1:1-3。

4.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，步驟2中，所述的P25、IL、鹽酸左氧氟沙星和去離子水的用量比為0.3g：0.43g：0.21g:50mL。

5.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，其特征在于，步驟2中，所述第一次攪拌的時間為4h，第二次攪拌的時間為0.5h。

6.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，其特征在于，步驟2中，所述N′N-亞甲基雙丙烯酰胺、2,2′-偶氮二異庚腈和去離子水的用量比為1.54g:10mg:50mL。

7.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，步驟2中，所述洗脫具體是在250W氙燈下洗脫3h。

8.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，步驟2中，所述微波反應儀中的反應功率為600W，工作溫度為60℃，工作時間為120分鐘，攪拌速度為2000轉/分鐘。

9.根據權利要求1所述的克服水分子干擾的離子液體基印跡光催化納米反應器的制備方法，步驟1～2中，所述真空干燥的溫度均為30℃，烘干時間均為12h。

10.將權利要求1～9任一項所述制備方法得到的離子液體基印跡光催化納米反應器用于選擇性吸附和降解鹽酸左氧氟沙星的用途。