[發(fā)明專利]缺陷檢測方法及相關(guān)裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111160510.1 | 申請日： | 2021-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN113902697A | 公開（公告）日： | 2022-01-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳魯;肖遙;佟異;張嵩 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳中科飛測科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G06T7/00 | 分類號： | G06T7/00;G06T7/11;G06T7/62;G06T7/73 |
| 代理公司： | 深圳鼎合誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281 | 代理人： | 彭家恩 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市龍華區(qū)大浪街*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 缺陷 檢測 方法 相關(guān) 裝置 | ||
1.一種缺陷檢測方法，其特征在于，應(yīng)用于缺陷檢測設(shè)備，所述缺陷檢測方法包括：
獲取待測件的原始圖像；
根據(jù)第一預(yù)設(shè)閾值與第二預(yù)設(shè)閾值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理，并得到二值化圖像；
根據(jù)預(yù)設(shè)模板圖像對所述二值化圖像處理，并得到檢測圖像；
確定所述檢測圖像中缺陷特征的缺陷面積；
當(dāng)所述缺陷面積大于預(yù)設(shè)面積時，確定所述缺陷特征在所述原始圖像中的相對位置；
當(dāng)所述缺陷特征位于所述預(yù)設(shè)模板圖像的第一模板區(qū)域時，確定所述待測件為缺陷件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述根據(jù)第一預(yù)設(shè)閾值與第二預(yù)設(shè)閾值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理，并得到二值化圖像，包括：
根據(jù)所述第一預(yù)設(shè)閾值與第二預(yù)設(shè)閾值，確定至少一個待遍歷的二值化灰度值；
根據(jù)所述二值化灰度值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理；
確定每個經(jīng)過根據(jù)所述二值化灰度值進(jìn)行二值化處理后的圖像的第一特征區(qū)域與第二特征區(qū)域；
根據(jù)所述第一特征區(qū)域與所述第二特征區(qū)域確定目標(biāo)灰度值；
根據(jù)目標(biāo)灰度值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述確定每個經(jīng)過根據(jù)所述二值化灰度值進(jìn)行二值化處理后的圖像的第一特征區(qū)域與第二特征區(qū)域，包括：
確定所述預(yù)設(shè)模板圖像中特征像素點的位置信息；
根據(jù)所述特征像素點的位置確定所述第一特征區(qū)域與所述第二特征區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一特征區(qū)域與所述第二特征區(qū)域確定目標(biāo)灰度值，包括：
遍歷確定每個所述二值化灰度值對應(yīng)的第一特征區(qū)域的第一像素點數(shù)量與第二特征區(qū)域的第二像素點數(shù)量；
根據(jù)所述第一像素點數(shù)量與所述第二像素點數(shù)量確定所述二值化灰度值對應(yīng)的面積比例；
確定所述面積比例最大的對應(yīng)的二值化灰度值為所述目標(biāo)灰度值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)模板圖像包括第一模板區(qū)域以及第二模板區(qū)域，所述根據(jù)預(yù)設(shè)模板圖像對所述二值化圖像處理，并得到檢測圖像，包括：
確定所述第一模板區(qū)域的第一特征信息與所述第二模板區(qū)域的第二特征信息；
根據(jù)所述第一特征信息與所述第二特征信息對所述二值化圖像進(jìn)行處理，并得到檢測圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述根據(jù)預(yù)設(shè)模板圖像對所述二值化圖像處理，并得到檢測圖像，之后還包括，
確定所述檢測圖像的檢測范圍；
在確定所述檢測范圍后，執(zhí)行所述確定所述檢測圖像中缺陷特征的缺陷面積的步驟。
7.一種缺陷檢測裝置，其特征在于，所述缺陷檢測裝置包括：
獲取單元，用于獲取待測件的原始圖像；
圖像處理單元，用于根據(jù)第一預(yù)設(shè)閾值與第二預(yù)設(shè)閾值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理，并得到二值化圖像；
所述圖像處理單元，還用于根據(jù)預(yù)設(shè)模板圖像對所述二值化圖像處理，并得到檢測圖像；
確定單元，用于確定所述檢測圖像中缺陷特征的缺陷面積；
所述確定單元，還用于當(dāng)所述缺陷面積大于預(yù)設(shè)面積時，確定所述缺陷特征在所述原始圖像中的相對位置；
所述確定單元，還用于當(dāng)所述缺陷特征位于預(yù)設(shè)位置范圍時，確定所述待測件為缺陷件。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，在根據(jù)第一預(yù)設(shè)閾值與第二預(yù)設(shè)閾值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理，并得到二值化圖像方面，所述圖像處理單元具體用于：
根據(jù)所述第一預(yù)設(shè)閾值與第二預(yù)設(shè)閾值，確定至少一個待遍歷的二值化灰度值；
根據(jù)所述二值化灰度值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理；
確定每個經(jīng)過根據(jù)所述二值化灰度值進(jìn)行二值化處理后的圖像的第一特征區(qū)域與第二特征區(qū)域；
根據(jù)所述第一特征區(qū)域與所述第二特征區(qū)域確定目標(biāo)灰度值；
根據(jù)目標(biāo)灰度值對所述原始圖像進(jìn)行二值化處理。
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