[發明專利]投影設備及其光源裝置

在審

• 申請號: 202111160048.5
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN113867090A
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 閆國楓;張聰;胡震宇
• 申請（專利權）人: 深圳市火樂科技發展有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 張曉薇

1.一種光源裝置，其特征在于，包括

激光模組，包括陣列設置的多個激光發射器；

光學陣列組，包括沿光軸方向依次設置于所述激光模組的一側的多個光學陣列，每個所述光學陣列包括多個沿垂直光軸的方向上陣列設置的光學單元，每個所述光學單元與所述激光發射器對應設置；

各所述激光發射器射出的激光穿過各自對應的多個光學單元。

2.如權利要求1所述的光源裝置，其特征在于，所述多個光學陣列包括：

第一光學陣列，包括多個準直透鏡單元，每個所述準直透鏡單元均與所述激光發射器對應設置；

所述光源裝置還包括至少一個透光層，所述至少一個透光層包括：

第一變折射率透光層，沿光軸方向設置于所述第一光學陣列出光一側。

3.如權利要求2所述的光源裝置，其特征在于，所述至少一個透光層還包括：

擴散透光層，沿光軸方向設置于所述第一變折射率透光層出光一側。

4.如權利要求3所述的光源裝置，其特征在于，所述多個光學陣列還包括：

第二光學陣列，沿光軸方向設置于所述擴散透光層出光一側，所述第二光學陣列包括多個勻光單元，每個所述勻光單元均與所述激光發射器對應設置。

5.如權利要求3所述的光源裝置，其特征在于，所述光源裝置還包括：

收光元件，沿光軸方向設置于所述光學陣列組出光一側。

6.如權利要求2所述的光源裝置，其特征在于，所述至少一個透光層還包括第二變折射率透光層，所述多個光學陣列還包括第三光學陣列和第四光學陣列，所述第三光學陣列、所述第二變折射率透光層和所述第四光學陣列在所述第一變折射率透光層的出光一側依次設置；

其中，所述第三光學陣列包括多個光斑壓縮單元，每個所述光斑壓縮單元與所述激光發射器對應設置；所述第四光學陣列包括多個收光單元，每個所述收光單元均與所述激光發射器對應設置。

7.如權利要求6所述的光源裝置，其特征在于，所述光斑壓縮單元沿光軸方向設置有多層。

8.如權利要求6所述的光源裝置，其特征在于，所述至少一個透光層還包括擴散透光層，所述擴散透光層沿光軸方向設置于所述第一變折射率透光層出光一側，所述第三光學陣列位于所述第一變折射率透光層和所述擴散透光層之間。

9.如權利要求2至8任意一項所述的光源裝置，其特征在于，在光軸方向上，多個所述光學陣列的光學單元與相鄰的部分所述透光層集成為單元組件，多個所述單元組件與多個所述激光發射器對應陣列設置，兩相鄰的單元組件彼此相連，形成光學陣列模組。

10.一種投影設備，其特征在于，包括棱鏡組、空間光調制器、鏡頭組件以及如權利要求1至9任意一項所述的光源裝置，所述激光模組發射出的激光穿過所述光學陣列組后，經過所述棱鏡組，后再經所述空間光調制器調制從所述鏡頭組件出射。