[發(fā)明專利]一種高低能射束融合劑量分布的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111158708.6 | 申請日： | 2021-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN113856069A | 公開（公告）日： | 2021-12-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 周凌宏;亓孟科;徐圓;宋婷;凌慶慶 | 申請（專利權(quán)）人： | 南方醫(yī)科大學(xué) |
| 主分類號： | A61N5/10 | 分類號： | A61N5/10 |
| 代理公司： | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 趙蕊紅 |
| 地址： | 510515 廣東省廣州*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 低能 融合 劑量 分布 方法 | ||
1.一種高低能射束融合劑量分布的方法，其特征在于，包括步驟有：
步驟一、采集圖像；
步驟二、根據(jù)步驟一的圖像對應(yīng)的組織模體種類及步驟一的圖像中對象的深度，在數(shù)據(jù)庫中選取對應(yīng)能量的電子線和X射線，并根據(jù)步驟一的圖像中對象的尺寸分別選高能電子線設(shè)備及低能X射線設(shè)備對應(yīng)尺寸的限光筒和施照器，所述數(shù)據(jù)庫包括在不同組織模體種類下，電子線能量及深度的對應(yīng)關(guān)系以及X射線能量及深度的對應(yīng)關(guān)系；
步驟三、根據(jù)步驟二中選取的電子線、X射線、限光筒和施照器，使用蒙特卡羅軟件分別模擬電子線、X射線在對象中的劑量分布，并進(jìn)行劑量校正；
步驟四、設(shè)定對象中心點(x,y，z)的混合劑量值c；
步驟五、根據(jù)步驟三得到的校正后劑量和步驟四的對象中心點(x,y,z)的混合劑量值c，迭代計算電子線和X射線的最終照射劑量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高低能射束融合劑量分布的方法，其特征在于，所述數(shù)據(jù)庫的建立方法為：
首先使用蒙特卡羅軟件分別對兆伏級高能電子線放射源的完整結(jié)構(gòu)和千伏級低能X射線放射源的完整結(jié)構(gòu)進(jìn)行模擬，得到對應(yīng)的設(shè)備模擬結(jié)構(gòu)；
然后分別進(jìn)行不同能量的電子線在不同組織模體中的輻射劑量模擬計算與特性分析，建立作用深度與電子線能量的對應(yīng)關(guān)系；同時分別進(jìn)行不同能量的X射線在不同組織模體中的輻射劑量模擬計算與特性分析，建立作用深度與X射線能量的對應(yīng)關(guān)系。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高低能射束融合劑量分布的方法，其特征在于：所述輻射劑量模擬計算具體為利用蒙特卡羅軟件和所述設(shè)備模擬結(jié)構(gòu)，分別對不同能量的電子線和不同能量的X射線在入射組織模體的過程進(jìn)行模擬，計算在多種組織模體中的沉積劑量分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高低能射束融合劑量分布的方法，其特征在于：所述特性分析具體為根據(jù)所述模擬劑量分布分別計算對應(yīng)電子線和X射線在中心軸上的百分深度劑量曲線以及有效作用深度；其中電子線的有效作用深度為90％劑量深度，X射線的有效作用深度為10％劑量深度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高低能射束融合劑量分布的方法，其特征在于：在所述步驟三中的劑量校正具體為，將電子線的蒙特卡羅模擬校正系數(shù)乘以電子線的劑量分布，得到單位劑量下電子線劑量分布B，并計算電子線百分深度劑量曲線PB；將X射線的蒙特卡羅模擬校正系數(shù)乘以X射線的劑量分布，得到單位劑量下X射線劑量分布A。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南方醫(yī)科大學(xué)，未經(jīng)南方醫(yī)科大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111158708.6/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
