[發明專利]濾光膜、濾光膜的制備方法、顯示面板和顯示裝置

在審

• 申請號: 202111152958.9
• 申請日: 2021-09-29
• 公開（公告）號: CN113934045A
• 公開（公告）日: 2022-01-14
• 發明（設計）人: 王宇超;余艷平;周婷;李俊誼
• 申請（專利權）人: 廈門天馬微電子有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258
• 代理人: 尹紅敏

本申請實施例提供一種濾光膜、濾光膜的制備方法、顯示面板和顯示裝置，濾光膜包括：基板；預處理層，設置于基板，預處理層的材料包括靶材；黑矩陣層，設置于預處理層背離基板的一側，黑矩陣層包括陣列分布的多個限定開口，至少部分預處理層由限定開口露出；色阻層，包括兩種以上不同顏色的色阻，色阻分別位于限定開口，至少一種色阻的材料包括能夠與靶材發生化學鍵合反應的反應材料。本申請能夠解決色阻材料被大量浪費的問題。

技術領域

本申請涉及顯示技術領域，尤其涉及一種濾光膜、濾光膜的制備方法、顯示面板和顯示裝置。

背景技術

液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display，LCD)具有機身輕薄、省電、無輻射等眾多優點，得到了廣泛的應用。如：液晶電視、移動電話、計算機屏幕和筆記本屏幕等。

通常，LCD顯示裝置需要通過濾光膜來實現彩色顯示。濾光膜包括黑色矩陣(BlackMatrix，BM)和設置在BM層的色阻。在傳統的濾光膜制備方法中，通常是將色阻整層設置于BM上以后再對色阻進行圖案化處理，該方法導致大量的色阻材料被顯影而浪費掉。

發明內容

本申請實施例提供一種濾光膜、濾光膜的制備方法、顯示面板和顯示裝置，旨在解決濾光膜制備過程中導致的色阻材料被大量浪費的問題。

本申請第一方面的實施例提供了一種濾光膜，濾光膜包括：基板；預處理層，設置于基板，預處理層的材料包括靶材；黑矩陣層，設置于預處理層背離基板的一側，黑矩陣層包括陣列分布的多個限定開口，至少部分預處理層由限定開口露出；色阻層，包括兩種以上不同顏色的色阻，色阻分別位于限定開口，至少一種色阻的材料包括能夠與靶材發生化學鍵合反應的反應材料。

本申請第二方面的實施例還提供了一種濾光膜的制備方法，濾光膜的制備方法包括：

在基板上形成預處理層，預處理層的材料包括第一靶材；

在預處理層上形成黑矩陣材料層，對黑矩陣材料層進行圖案化處理形成黑矩陣層，黑矩陣層包括第一開口，至少部分預處理層由第一開口露出；

在第一開口內形成第一色阻，第一色阻包括能夠與第一靶材發生化學鍵合反應的第一反應材料。

本發明第三方面的實施例提供一種顯示面板，包括上述任一第一方面實施例提供的濾光膜。

本發明第四方面的實施例提供一種顯示裝置，包括上述第三方面實施例提供的顯示面板。

在本申請實施例提供的濾光膜中，濾光膜包括基板和依次設置于基板的預處理層、黑矩陣層和色阻層，其中黑矩陣包括陣列分布的限定開口，不同顏色的色阻層可以設置于限定開口內，實現濾光膜的濾光效果。此外，預處理層由限定開口露出，色阻層在限定開口內與預處理層相互接觸。而預處理層包括靶材，色阻層包括能夠與靶材發生化學鍵合反應的反應材料，反應材料能夠與靶材分子鍵合。在濾光膜的制備過程中，色阻層通過反應材料和靶材鍵合形成于限定開口內，無需將色阻整層設置于整個黑矩陣層上以后再對色阻進行圖案化處理，不會導致大量的色阻材料被顯影而浪費掉。因此本申請實施例的濾光膜通過增設預處理層，且在色阻層的材料中加入能夠與預處理層的靶材發生化學鍵合反應的反應材料，能夠解決色阻材料被大量浪費的問題。

附圖說明

通過閱讀以下參照附圖對非限制性實施例所作的詳細描述，本申請的其它特征、目的和優點將會變得更明顯，其中，相同或相似的附圖標記表示相同或相似的特征。

圖1是相關技術中濾光膜的結構示意圖；

圖2是本申請實施例提供的一種濾光膜的俯視結構示意圖；

圖3是圖2中A-A處的剖視圖；

圖4是另一實施例中圖2中A-A處的剖視圖；

圖5是本申請實施例提供的濾光膜的制備方法流程示意圖；