[發明專利]氫氣發生器

在審

• 申請號: 202111149808.2
• 申請日: 2021-09-29
• 公開（公告）號: CN114380276A
• 公開（公告）日: 2022-04-22
• 發明（設計）人: 疋田育之;世登裕明;近藤剛弘;伊藤伸一
• 申請（專利權）人: 株式會社電裝;國立大學法人筑波大學;國立大學法人東京工業大學
• 主分類號: C01B3/04
• 分類號: C01B3/04
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 過曉東

1.一種氫氣發生器，其包含：

反應容器(13)，其容納具有產氫能力的產氫材料；

供水裝置(10)，其被配置為向所述產氫材料供水；

溫度調節器(14)，其被配置為調節所述產氫材料的溫度；和

控制器(21)，其被配置為控制所述供水裝置和所述溫度調節器，其中

所述產氫材料包括具有二維網絡的二維硼化氫片，所述二維硼化氫片含有帶負電的硼原子，

所述控制器被配置為執行：

產氫模式，以由所述產氫材料產生氫氣；以及

再生模式，以恢復所述產氫材料的產氫能力；并且

所述控制器還被配置為：

在所述產氫模式期間，控制所述溫度調節器以在第一預定溫度加熱所述產氫材料；以及

在所述再生模式期間，控制所述溫度調節器以將所述產氫材料的溫度調節至第二預定溫度，并控制所述供水裝置以供水，其中，

所述第二預定溫度低于所述第一預定溫度。

2.根據權利要求1所述的氫氣發生器，其中，

在通過X射線光電子能譜獲得的光譜中，二維硼化氫片在187.5eV附近具有峰，所述峰歸因于帶負電的硼原子的B1s。

3.根據權利要求1所述的氫氣發生器，其中，

所述控制器進一步被配置成用于交替地執行所述產氫模式和所述再生模式。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的氫氣發生器，其中，

所述第一預定溫度在60℃與500℃之間，并包括60℃與500℃。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的氫氣發生器，其中，

所述第一預定溫度在200℃與350℃之間，并包括200℃與350℃。

6.根據權利要求1至3中任一項所述的氫氣發生器，其中，

所述第二預定溫度在0℃與200℃之間，并包括0℃與200℃。