[發(fā)明專利]利用鎳鐵液生產高冰鎳的裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111148522.2 | 申請日: | 2021-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN113943863B | 公開(公告)日: | 2023-06-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 裴忠冶;代文彬;祁永峰;陳學剛 | 申請(專利權)人: | 中國恩菲工程技術有限公司 |
| 主分類號: | C22B7/00 | 分類號: | C22B7/00;C22B23/02;C01G53/11 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 白雪 |
| 地址: | 100038*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 鎳鐵液 生產 高冰鎳 裝置 方法 | ||
1.一種利用鎳鐵液生產高冰鎳的裝置,其特征在于,所述裝置為一體爐,爐內具有一內腔,且所述內腔分為水平順次連通的硫化區(qū)(10)及氧化區(qū)(20);其中,
所述硫化區(qū)(10)具有第一加料口(11)、高冰鎳排放口(12)、熔渣排放口(13)及多個第一噴孔(14);所述硫化區(qū)(10)還配置有與所述第一噴孔(14)一一對應設置的多個第一噴槍,其用于鼓入硫化劑;所述第一加料口(11)用于加入鎳鐵液,所述鎳鐵液的溫度為1150~1550℃;所述硫化劑為液體硫磺;所述硫化區(qū)(10)用于使所述鎳鐵液進行硫化反應以產出低冰鎳;其中所述第一加料口(11)設置在所述硫化區(qū)(10)遠離所述氧化區(qū)(20)一側的側壁上;所述高冰鎳排放口(12)設置在所述硫化區(qū)(10)下部;
所述氧化區(qū)(20)具有第二加料口(21)及多個第二噴孔(22);所述氧化區(qū)(20)還配置有與所述第二噴孔(22)一一對應設置的多個第二噴槍,其用于鼓入富氧氣體;所述第二加料口(21)設置在所述氧化區(qū)(20)頂部,其用于加入造渣熔劑;所述氧化區(qū)(20)用于使所述低冰鎳進行氧化造渣反應,生成含鎳68~79wt%的高冰鎳及熔渣;
其中,所述裝置采用側吹設置,具體如下:所述熔渣排放口(13)、所述第一加料口(11)及所述第一噴孔(14)分別設置在所述硫化區(qū)(10)的不同側壁上,且所述第二噴孔(22)設置在所述氧化區(qū)(20)的側壁上;所述內腔的底壁具有一臺階結構,且所述硫化區(qū)(10)對應的底壁深度深于所述氧化區(qū)(20)對應的底壁深度,所述第一噴孔(14)的水平高度低于所述第二噴孔(22)的水平高度;所述內腔的頂壁處于同一水平高度,將所述硫化區(qū)(10)的內腔高度記為H1,將所述第一噴孔(14)到所述硫化區(qū)(10)底壁的高度記為H2,H2/H1=0.02~0.20;將所述氧化區(qū)(20)的內腔高度記為H3,將所述第二噴孔(22)到所述氧化區(qū)(20)底壁的高度記為H4,H4/?H3=0.05~0.3;且將所述硫化區(qū)(10)對應的底壁和所述氧化區(qū)(20)對應的底壁之間的高度差記為H5,H5/H1=0.02~0.08;將所述熔渣排放口(13)到所述硫化區(qū)(10)底壁的高度記為H6,H6/H1=0.3~0.5。
2.根據(jù)權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述臺階結構位于所述硫化區(qū)(10)及所述氧化區(qū)(20)之間。
3.根據(jù)權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一噴槍的管口直徑小于所述第二噴槍的管口直徑。
4.根據(jù)權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述第一噴槍的管口直徑為5~15mm;所述第二噴槍的管口直徑為20~50mm。
5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第一加料口(11)的加料方向朝向所述硫化區(qū)(10)內部并傾斜向下,且與水平方向的夾角為14~22°。
6.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第一噴孔(14)的個數(shù)為3~5個,所述第二噴孔(22)的個數(shù)為3~8個。
7.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的裝置,其特征在于,所述硫化區(qū)(10)頂部設置有第三加料口(15),其用于加入含鎳物料;所述氧化區(qū)(20)底部設置有底渣排放口(23)。
8.根據(jù)權利要求7所述的裝置,其特征在于,爐體頂部設置有煙氣排出口(24);所述煙氣排出口(24)設置在所述內腔頂部的所述第二加料口(21)和所述第三加料口(15)之間的位置。
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