[發明專利]一種獲取不可分辨共振區高精度總反應截面的方法

有效

• 申請號: 202111146306.4
• 申請日: 2021-09-28
• 公開（公告）號: CN113868591B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 鄭友琦;衛臨方;杜夏楠;王永平;吳宏春
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: G06F17/13
• 分類號: G06F17/13;G06F30/20
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所 61215
• 代理人: 何會俠

1.一種獲取不可分辨共振區高精度總反應截面的方法，其特征在于：包括如下步驟：

步驟1：選取若干背景截面，使用評價核數據處理程序預先制作²³⁵U、²³⁸U在這些背景截面下的不可分辨共振積分表；

步驟2：根據公式(1)將步驟1所制作的不可分辨共振積分表中總反應截面積分分為光滑部分積分和共振部分積分；

式中：

I_t——總反應截面積分

——總反應截面的光滑部分積分

——總反應截面的共振部分積分

步驟3：根據公式(2)計算核素的背景截面；

式中：

——核素r的背景截面

N^r——核素r的核子密度

N^m——核素m的核子密度

——核素m的微觀總反應截面

步驟4：確定核素的背景截面所對應預制共振積分表中的背景截面區間(σ_b1,σ_b2)，根據公式(3)和(4)計算區間端點處的自屏因子f₁，f₂；

式中：

f₁——背景截面為σ_b1時的自屏因子

f₂——背景截面為σ_b2時的自屏因子

——無限稀釋時總反應截面的共振部分積分

——背景截面為σ_b1時總反應截面的共振部分積分

——背景截面為σ_b2時總反應截面的共振部分積分

步驟5：根據公式(5)和(6)對總反應截面的共振部分積分進行自屏計算；

式中：

——背景截面為σ_b1時有效總反應截面的共振部分積分

——背景截面為σ_b2時有效總反應截面的共振部分積分

步驟6：根據公式(7)和(8)將步驟5所得共振部分積分與光滑部分積分求和獲得背景截面在區間端點處所對應的有效總反應截面積分；

式中：

I_t,1——背景截面為σ_b1時的有效總反應截面積分

I_t,2——背景截面為σ_b2時的有效總反應截面積分

步驟7：利用步驟6所得區間端點處所對應的有效總反應截面積分，根據公式(9)插值獲得核素在背景截面為σ_b0時的不可分辨共振區有效總反應截面積分；

式中：

——背景截面為σ_b0時的有效總反應截面積分。

2.根據權利要求1所述的一種獲取不可分辨共振區高精度總反應截面的方法，其特征在于：步驟4確定所對應的預制共振積分表中背景截面區間的端點值時采用就近原則，即以距離當前背景截面值最近的兩點為插值區間。