[發(fā)明專利]一種自修復(fù)材料、自愈合涂層、自愈合顯示元件及制備工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111145449.3
• 申請(qǐng)日: 2021-09-28
• 公開（公告）號(hào): CN114133540B
• 公開（公告）日: 2022-10-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡瀟然;游夢(mèng)麗;張千;向勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號(hào): C08G63/60
• 分類號(hào): C08G63/60;C08G63/672;C08G63/78;C09D167/02
• 代理公司: 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44361
• 代理人: 王琴

1.一種自修復(fù)材料，其特征在于，通式至少包括如下所示結(jié)構(gòu)：

其中：

Y₁包括中至少一者；

Y₂包括中至少一者；

Y₃包括中至少一者；

X為開鏈的碳鏈；

Z為鍵連接體或開鏈的碳鏈；

Q為開鏈的碳鏈；

X、Z和Q三者的支鏈數(shù)量之和小于或等于s、p和m三者之和的30％；

當(dāng)均不含支鏈時(shí)，Y₁、Y₂、Y₃不完全由和構(gòu)成；

s和p不同時(shí)為零，且s和m不同時(shí)為零。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自修復(fù)材料，其特征在于，所述自修復(fù)材料的數(shù)均分子量大于或等于30000 。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自修復(fù)材料，其特征在于，在所述自修復(fù)材料中，結(jié)構(gòu)三者的數(shù)量之和大于或等于s、p和m三者之和的10％。

4.一種自愈合涂層，其特征在于，至少通過如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的自修復(fù)材料制備得到。

5.一種如權(quán)利要求4所述的自愈合涂層制備工藝，其特征在于，將所述自修復(fù)材料用溶劑溶解，以3-8cm/s的速率進(jìn)行涂布，再將所述溶劑除去。

6.一種自愈合顯示元件，其特征在于，具有至少通過如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的自修復(fù)材料制備得到的自愈合涂層或如權(quán)利要求4所述的自愈合涂層。

7.一種自修復(fù)材料制備工藝，其特征在于，包括：將單體a和單體b聚合，得到自修復(fù)材料；

其中：

單體a包括中至少一者；

單體b包括HOOC-Z-COOH與HO-Q-OH的組合、及HOOC-X-OH中至少一者；

X為開鏈的碳鏈；

Z為鍵連接體或開鏈的碳鏈；

Q為開鏈的碳鏈；

X、Z和Q三者的支鏈數(shù)量之和小于或等于單體a和單體b摩爾數(shù)量之和的15％。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自修復(fù)材料制備工藝，其特征在于，將單體a和單體b聚合時(shí)，包括：

先將單體a和單體b在常壓60℃-150℃反應(yīng)0.5h-5h；

再于常壓下140℃-230℃反應(yīng)1h-5h；

最后在減壓環(huán)境下210℃-270℃反應(yīng)2h-20h，得到自修復(fù)材料。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自修復(fù)材料制備工藝，其特征在于，單體a的摩爾量大于或等于單體a和單體b摩爾總量的10％。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的自修復(fù)材料制備工藝，其特征在于，X、Z和Q三者的支鏈數(shù)量之和小于或等于單體a和單體b摩爾數(shù)量之和的5％。