[發(fā)明專利]顯示面板的制作方法、顯示面板及顯示裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111145306.2 | 申請日: | 2021-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN115877613A | 公開(公告)日: | 2023-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 侯東飛;張鋒;董立文;崔釗;劉文渠;孟德天;王利波;呂志軍;姚琪 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京金信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 莊何媛;范繼晨 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板的制作方法,包括:
在襯底基板上制備第一基底,形成第一基板;
在所述第一基底上制備多個支撐結(jié)構(gòu),其中,多個所述支撐結(jié)構(gòu)在所述第一基底上間隔設(shè)置,相鄰的所述支撐結(jié)構(gòu)之間形成第一間隙;
在所述第一間隙內(nèi)填充第一光刻膠以形成像素墻;
將所述支撐結(jié)構(gòu)去除,以使所述像素墻形成在所述第一基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述支撐結(jié)構(gòu)沿所述第一基板的厚度方向延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述支撐結(jié)構(gòu)的高度大于所述像素墻的高度,其中,所述支撐結(jié)構(gòu)的高度為沿所述第一基板的厚度方向,所述支撐結(jié)構(gòu)遠離所述第一基板的表面到所述第一基板的距離;所述像素墻的高度為沿所述第一基板的厚度方向,所述像素墻遠離所述第一基板的表面到所述第一基板的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述在所述第一基底上制備多個支撐結(jié)構(gòu),包括:
在所述第一基底上涂覆第二光刻膠;
對涂覆的所述第二光刻膠進行曝光,并對曝光后的所述第二光刻膠進行顯影,得到所述支撐結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述在所述第一基底上制備多個支撐結(jié)構(gòu),包括:
在所述第一基底上涂覆壓印膠,形成壓印層;
按照預(yù)設(shè)的圖形樣式對所述壓印層進行壓印,壓印出凹槽區(qū)域,其中,所述凹槽區(qū)域形成所述第一間隙,所述壓印層未被壓印的部分形成所述支撐結(jié)構(gòu);
在壓印完成的所述壓印層上保留預(yù)設(shè)的所述壓印膠形成壓印殘膠層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述將所述支撐結(jié)構(gòu)去除,包括:
通過使用剝離液或干刻的方式將所述支撐結(jié)構(gòu)去除。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的方法,其中,所述方法還包括:
制備第二基板;
將所述第一基板與所述第二基板對盒,形成顯示面板。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中,所述方法還包括:
在所述第一基底上制備透鏡層;
在所述透鏡層上制備多個所述支撐結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中,所述第一基底包括同層設(shè)置的濾光層和遮光層,所述在所述透鏡層上制備多個所述支撐結(jié)構(gòu),包括:
在所述透鏡層上與所述濾光層對應(yīng)的位置制備所述支撐結(jié)構(gòu)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中,所述在所述第一基底上制備透鏡層,包括:
對設(shè)置在所述第一基底上的透鏡材料進行涂覆,并通過納米壓印固化成型的方式形成所述透鏡層。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中,所述第一基板為陣列基板,所述第二基板為彩膜基板,所述第二基板包括同層設(shè)置的濾光層和遮光層,所述第一基板與第二基板對盒后,形成在所述第一基板的所述像素墻的位置與所述第二基板的所述遮光層對應(yīng);或者
所述第一基板為彩膜基板,所述第二基板為陣列基板,所述方法還包括:
在所述第二基板上形成像素墻;所述第一基板與所述第二基板對盒后,所述第二基板上的像素墻與所述第一基板上的像素墻一一對應(yīng)。
12.一種顯示面板,包括第一基板、第二基板以及設(shè)置在所述第一基板和所述第二基板之間的像素墻,其中,所述像素墻采用根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的方法形成在所述第一基板。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示面板,其中,所述第一基板為彩膜基板,所述彩膜基板上形成有透鏡層,所述像素墻形成在所述透鏡層上;或者,所述第一基板為陣列基板,所述像素墻形成在所述陣列基板的TFT基底上。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





