[發明專利]一種用于投影裝置中的勻光器件

在審

• 申請號: 202111141309.9
• 申請日: 2021-09-28
• 公開（公告）號: CN113867089A
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 周際新;董月紅
• 申請（專利權）人: 揚州吉新光電有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G02B27/09
• 代理公司: 淮安市科翔專利商標事務所 32110
• 代理人: 韓曉斌

1.一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，包括：

基板，所述基板包括第一表面以及與第一表面相對設置的第二表面；

勻光結構，所述勻光結構設于所述基板第一表面，且所述勻光結構為凸起和/或凹陷結構；

驅動部件，所述驅動部件與所述基板連接，使的所述基板反復運動的頻率不低于10赫茲。

2.根據權利要求1所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述基板第一表面設有光學間隔層，所述光學間隔層遠離基板一側設有勻光結構。

3.根據權利要求1所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述勻光結構隨機或偽隨機分布于所述基板第一表面。

4.根據權利要求1或2所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，當光線經過所述勻光結構時，形成的勻光角度為1°~20°。

5.根據權利要求1所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述勻光結構規則排布于所述基板第一表面，且所述勻光結構排列至少構成一個圓或一個環，所述圓或者環包括多個勻光結構；其中，所述勻光結構的頂角范圍為95°~150°。

6.根據權利要求2所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述基板與所述光學間隔層之間還設有增透層，使的所述勻光器件的透過率不小于60%。

7.根據權利要求1~6所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述基板第二表面設有勻光結構；或者所述基板第二表面設有第二光學間隔層，所述第二光學間隔層遠離所述基板一側設有勻光結構。

8.根據權利要求5所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，至少存在一勻光結構是通過將相鄰的勻光結構旋轉而得到，且當光線經過所述勻光結構時，形成的勻光角度為1°~20°。

9.根據權利要求1所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述基板為金屬材質；或者所述基板為金屬材質，且所述勻光結構表面設有反射層，當光線經過所述勻光結構時，形成的勻光角度為15°~50°。

10.根據權利要求1所述的一種用于投影裝置中的勻光器件，其特征在于，所述勻光結構還可以是勻光層，所述勻光層中設有勻光粒子。