[發(fā)明專利]降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111138140.1 | 申請日： | 2021-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN113871893A | 公開（公告）日： | 2021-12-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊濤;明章健;李剛;趙飛飛;章明明;胡樹楷;張霄 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國電子科技集團公司第三十八研究所 |
| 主分類號： | H01Q15/16 | 分類號： | H01Q15/16 |
| 代理公司： | 合肥市浩智運專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34124 | 代理人： | 丁瑞瑞 |
| 地址： | 230088 安徽省合*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 降低 反射 天線 邊緣 繞射場 強度 方法 裝置 | ||
1.降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法，其特征在于，該卷邊反射面天線中部形成拋物線反射面(3)，所述拋物線反射面(3)的周側(cè)為凹形輪廓線(2)，背離拋物線反射面(3)為卷邊曲面(1)，包括以下步驟：
S11、獲取卷邊的拋物曲線方程；
S12、獲取卷邊的附加曲線方程；
S13、獲取上述的參數(shù)方程，該參數(shù)方程包括拋物線與超橢圓的連接點處擴展部分的參數(shù)方程、超橢圓曲線的參數(shù)方程；
S14、基于拋物線方程、附加曲線、參數(shù)方程獲取卷邊曲線方程；
S15、將所述卷邊曲線方程、預(yù)設(shè)反射面邊緣口徑的凹形輪廓曲線在二維坐標(biāo)系下的坐標(biāo)和矢量，擴展到三維坐標(biāo)系，并離散三維曲線，生成三維曲面，使得反射面邊緣是卷邊曲面光滑過渡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法，其特征在于，所述步驟S1包括：
利用公式(1)，獲取無附加曲線的反射面曲線，,即卷邊的拋物曲線的方程：
其中，fparaloda為拋物線曲線方程，y為卷邊的寬度，z為卷邊的高度，f為焦距。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法，其特征在于，所述步驟S12包括：
利用公式(2)獲取卷邊的附加曲線方程；
其中，a∈R+，b∈R+，s∈R+，即a、b、s均為大于0的實數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法，其特征在于，所述拋物線與超橢圓的連接點處擴展部分的參數(shù)方程獲取步驟為：
利用公式(3)獲取在拋物線與超橢圓的連接點處擴展部分的參數(shù)方程為：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法，其特征在于，獲取超橢圓曲線的參數(shù)方程步驟為：
在拋物線與超橢圓的連接點處擴展部分，利用公式(4)獲取超橢圓曲線的參數(shù)方程為：
其中，
yj，zj∈R是連接點的坐標(biāo)，xm∈R是從連接點處沿著切線方向延伸的最大距離，γm∈R+是超橢圓方程角度參數(shù)γm的最大角度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的降低卷邊反射面天線的邊緣繞射場強度的方法，其特征在于，所述步驟S14包括：
利用公式(5)獲取卷邊曲線方程，如下所示：
fblend(γ)＝fparaloda(γ)[1-b(γ)]+fsuper-ellipse(γ)b(γ) 公式(5)
其中，b(γ)為余弦平方函數(shù)，如下所示：
其中，γm為位于(0，180]的實數(shù)。
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