[發明專利]光刻機掩模臺六自由度位移測量系統

有效

• 申請號: 202111137159.4
• 申請日: 2021-09-27
• 公開（公告）號: CN113758428B
• 公開（公告）日: 2022-12-13
• 發明（設計）人: 王磊杰;朱煜;郭子文;張鳴;葉偉楠;成榮
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 董永輝;曹素云

1.一種光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，包括：

光柵安裝板，固定在光刻機的掩模臺上，

第一平面光柵和第二平面光柵，相對固定在光柵安裝板的兩側，使得平面光柵與光柵安裝板的板面平行，其中，第一平面光柵包括相互垂直的柵線，且柵線方向是在所述掩模臺的平移平面的x軸和y軸方向上，第二平面光柵至少包括在所述掩模臺的平移平面的x軸或y軸方向上的柵線，其中x軸和y軸是直角坐標系的坐標軸；

三個探測器，任一探測器都具有掩模臺的平移平面內和垂直于掩模臺的平移平面方向的二自由度測量功能，

第一平面光柵包括第一區域和第二區域，第一區域與第二區域的柵線方向是相互垂直的；三個探測器分別置于第一區域、第二區域以及第二平面光柵的下方；

兩個光柵柵線方向一致的區域所對應的探測器，不布置在同一條直線上。

2.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

掩模臺的平移平面內的測量功能是指平行于光柵平面且垂直于柵線的位移測量；

垂直于掩模臺的平移平面方向的測量功能是指垂直于光柵平面的位移測量。

3.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

所述探測器包括探測器鏡組，以及入光/回光信號接收器，所述探測器鏡組與所述入光/回光信號接收器設置在所述掩模臺的下方，所述探測器鏡組用于產生激光干涉信號，所述入光/回光信號接收器用于提供輸入信號及接收輸出干涉信號。

4.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

任一探測器是光柵干涉儀或光柵編碼器。

5.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

具有平移平面內的測量功能且測量位移方向一致的探測器，不在同一條直線上。

6.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

所述第一平面光柵和第二平面光柵是通過范德華力或者膠合的方式連接在所述光柵安裝板的下表面。

7.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

所述第二平面光柵的柵線為柵格。

8.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

所述第一平面光柵、所述第二平面光柵的柵線均為柵格。

9.根據權利要求1所述的光刻機掩模臺六自由度位移測量系統，其特征在于，

所述第一平面光柵的柵線為柵格，所述第二平面光柵的柵線在所述掩模臺的平移平面的x軸或y軸方向上。