[發明專利]冷琺瑯制品的制備方法

在審

• 申請號: 202111136731.5
• 申請日: 2021-09-27
• 公開（公告）號: CN113752740A
• 公開（公告）日: 2021-12-07
• 發明（設計）人: 王瑜婷;王翰;程惠琴;賈鎮瑜;黃晶;汪一鳴
• 申請（專利權）人: 上海工藝美術職業學院
• 主分類號: B44C5/00
• 分類號: B44C5/00;B44C1/26
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286
• 代理人: 黃海霞

1.一種冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S0：提供皮質基底、若干金屬絲、液態樹脂膠、防染劑和粘合劑，所述皮質基底的待加工表面形成有若干凹槽；

S1：使用所述防染劑涂覆所述皮質基底的待加工表面和所述凹槽的內表面以形成防滲膜；

S2：將所述若干金屬絲通過所述粘合劑嵌于所述若干凹槽以填充所述凹槽的開口，并將所述皮質基底的待加工表面分隔為若干封閉區域；

S3：使用所述液態樹脂膠覆蓋所述若干封閉區域的底面并填充每個所述封閉區域內的至少部分空間，形成若干填充結構；

S4：對所述若干填充結構進行固化處理形成若干仿琺瑯層，得到所述冷琺瑯制品。

2.根據權利要求1所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述皮質基底為原始植鞣皮，所述若干凹槽的至少一部分呈弧形，所述步驟S0還包括：提供刻刀，通過所述刻刀對所述原始植鞣皮的待加工表面進行刻線操作以形成呈弧形的若干所述凹槽；

所述刻線操作的過程中，控制所述刻刀傾斜于所述原始植鞣皮的待加工表面形成的銳角為45-60度，所述刻刀切入所述原始植鞣皮的待加工表面的深度為所述原始植鞣皮厚度的1/2-1/3。

3.根據權利要求2所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述皮質基底的厚度不低于2毫米，通過所述刻刀對所述原始植鞣皮的待加工表面進行刻線操作以形成呈弧形的若干所述凹槽的步驟包括，通過所述刻刀進行所述刻線操作并控制呈弧形的若干所述凹槽的的高度為1-1.5毫米。

4.根據權利要求1所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，執行所述步驟S0之前，使用水對原始植鞣皮進行潤濕，使原始植鞣皮的吸水率不低于50％，以增加所述原始植鞣皮的可塑性。

5.根據權利要求1所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述金屬絲的寬度為3毫米-5毫米，厚度為1毫米，所述步驟S2中，將所述若干金屬絲通過所述粘合劑嵌于所述若干凹槽以填充所述凹槽的開口的步驟包括，控制所述金屬絲嵌入所述凹槽的深度為所述凹槽深度的1/3-1/2。

6.根據權利要求5所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中，將所述若干金屬絲通過所述粘合劑嵌于所述若干凹槽以填充所述凹槽的開口的步驟還包括，控制所述防滲固定膜的厚度低于所述金屬絲頂面至所述皮質基底頂面垂直距離的1/10。

7.根據權利要求5所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中，將所述若干金屬絲通過所述粘合劑嵌于所述若干凹槽以填充所述凹槽的開口的步驟還包括，控制所述凹槽通過所述粘合劑夾持所述金屬絲以實現緊密配合。

8.根據權利要求5所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述步驟S2中，將所述若干金屬絲通過所述粘合劑嵌于所述若干凹槽以填充所述凹槽的開口的步驟還包括，控制所述若干金屬絲的頂面距離所述皮質基底的頂面具有同一高度。

9.根據權利要求1所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述步驟S3中，使用所述液態樹脂膠覆蓋所述若干封閉區域的底面并填充每個所述封閉區域內的至少部分空間的步驟包括，控制每個所述封閉區域內由所述液態樹脂膠覆蓋所形成的填充結構的頂面與所述金屬絲的頂面齊平，且填充每個所述封閉區域內的空間。

10.根據權利要求1所述的冷琺瑯制品的制備方法，其特征在于，所述步驟S0中，選擇半植鞣皮基底和全植鞣皮基底中的任意一種作為所述皮質基底，選擇若干柔性金屬絲作為所述若干金屬絲。