[發明專利]一種投影光刻機、照明系統、控制系統及方法

在審

• 申請號: 202111115762.2
• 申請日: 2021-09-23
• 公開（公告）號: CN113805439A
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 上海度寧科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海大邦律師事務所 31252
• 代理人: 陳丹楓

1.一種適用于投影光刻機的照明系統，其特征在于，包括：光源、勻光光路、微鏡陣列、照明光路以及微鏡陣列數字控制器；

所述光源適于發出曝光光束，所述微鏡陣列數字控制器適于發出微鏡陣列控制信號，以控制所述微鏡陣列不同區域的微鏡像素開閉狀態；

所述微鏡陣列適于根據所述微鏡陣列控制信號的開關狀態形成可變的、大小可控的開狀態區域或關狀態區域，其中開狀態所在區域稱為狹縫窗口，微鏡陣列接收入射至所述狹縫窗口的曝光光束，以形成照明光束；

所述照明光路適于調制所述照明光束，以在掩模版上形成照明視場。

2.如權利要求1所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列有一組，所述照明系統還包括：所述微鏡陣列數字控制器適于發出一組微鏡陣列控制信號，以控制所述該組微鏡陣列不同區域的微鏡像素開閉狀態。

3.如權利要求1所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列有多組，所述照明系統還包括：反射鏡組件；所述微鏡陣列數字控制器適于發出多組微鏡陣列控制信號，以控制所述多組微鏡陣列不同區域的微鏡像素開閉狀態；所述反射鏡組件適于將多組微鏡陣列形成的照明光束反射匯聚至所述照明光路。

4.如權利要求3所述的照明系統，其特征在于，所述光源有多個，每個光源適于發出曝光光束至對應微鏡陣列。

5.如權利要求3所述的照明系統，其特征在于，所述光源也可以是分光光源，也即一個光源分成多組分光光源，以分別照射多組微鏡陣列。

6.如權利要求3所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列有兩組，所述反射鏡組件為雙面棱鏡，包括側面棱鏡；

一組微鏡陣列適于接收入射至該微鏡陣列狹縫窗口的曝光光束以形成第一照明光束，所述第一照明光束可通過一側面棱鏡反射至照明光路；

另一組微鏡陣列適于接收入射至該微鏡陣列狹縫窗口的曝光光束以形成第二照明光束，所述第二照明光束可通過另一側面棱鏡反射至照明光路；

所述照明光路適于調制所述第一照明光束以在掩模版上形成第一照明視場，調制所述第二照明光束以在掩模版上形成第二照明視場，所述掩模版上形成的照明視場為所述第一照明視場及第二照明視場形成的拼接視場。

7.如權利要求3所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列有三組，所述反射鏡組件為梯形棱鏡，包括側面棱鏡及中間棱鏡；

第一組微鏡陣列適于接收入射至該微鏡陣列狹縫窗口的曝光光束以形成第一照明光束，所述第一照明光束可通過一側面棱鏡反射至照明光路；

第二組微鏡陣列適于接收入射至該微鏡陣列狹縫窗口的曝光光束以形成第二照明光束，所述第一照明光束可通過另一側面棱鏡反射至照明光路；

第三組微鏡陣列適于接收入射至該微鏡陣列狹縫窗口的曝光光束以形成第三照明光束，所述第三照明光束可通過中間棱鏡透射至照明光路；

所述照明光路適于調制所述第一照明光束以在掩模版上形成第一照明視場，調制所述第二照明光束以在掩模版上形成第二照明視場，調制所述第三照明光束以在掩模版上形成第三照明視場，所述掩模版上形成的照明視場為所述第一照明視場、第二照明視場及第三照明視場形成的拼接視場。

8.如權利要求1至7任一項所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列為空間光調制器或液晶顯示器構成。

9.如權利要求1至7任一項所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列為N行乘以M列的由微米水平微鏡排布而成的方形陣列，微鏡總數量為N×M，N及M分別為大于或等于1的自然數。

10.如權利要求1至7任一項所述的照明系統，其特征在于，所述微鏡陣列包括可控制所述曝光光束直接照射或通過的可轉動微鏡，所述微鏡陣列控制信號適于控制所述微鏡陣列中微鏡的轉動角度以控制微鏡像素開閉狀態；或者，所述微鏡陣列包括可控制所述曝光光束直接照射或通過的開關陣列，所述微鏡陣列控制信號適于控制所述開關陣列的開啟或關閉以控制微鏡像素開閉狀態。