[發明專利]聚乙烯醇系薄膜和使用其的偏光膜在審
| 申請號： | 202111114369.1 | 申請日： | 2016-06-23 |
| 公開（公告）號： | CN113900163A | 公開（公告）日： | 2022-01-07 |
| 發明（設計）人： | 豊田大貴;早川誠一郎 | 申請（專利權）人： | 三菱化學株式會社 |
| 主分類號： | G02B1/04 | 分類號： | G02B1/04;G02B5/30;B29D7/01 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚乙烯醇 薄膜 使用 偏光 | ||
【權利要求書】：
1.一種聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，依據ISO14577：2002在下述(1)～(3)的條件下進行納米壓痕試驗時的薄膜表面的硬度為65～90MPa，
所述聚乙烯醇系薄膜通過以下的工序而制造，
工序(A)，通過澆鑄法進行制膜，
工序(B)，將制膜的薄膜與金屬加熱輥接觸來干燥，然后進行熱處理，其中，熱處理溫度高于金屬加熱輥的最高溫度的情況下，它們的溫度差設定為46℃以上，或者，熱處理溫度低于金屬加熱輥的最高溫度的情況下，它們的溫度差設定為32℃以上，
工序(C)，將經過干燥的薄膜的兩端部進行切邊后，卷取于輥，
條件(1)測定環境：25℃50％RH
條件(2)壓頭：Berkovich型、三角錐型、對頂角65°、ε＝0.75、金剛石制
條件(3)最大壓痕深度：500nm。
2.根據權利要求1所述的聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，在所述(1)～(3)的條件下進行納米壓痕試驗時的薄膜表面的彈性模量為1.0～1.4GPa。
3.根據權利要求1或2所述的聚乙烯醇系薄膜，其特征在于，厚度為5～45μm。
4.一種偏光膜，其特征在于，其是使用權利要求3所述的聚乙烯醇系薄膜而得到的。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三菱化學株式會社，未經三菱化學株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202111114369.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
