[發明專利]移動式氣浮導向機構

有效

• 申請號: 202111110622.6
• 申請日: 2021-09-22
• 公開（公告）號: CN113944691B
• 公開（公告）日: 2022-04-29
• 發明（設計）人: 吳劍威;趙鵬越;劉江;王輝;王繼堯;鄭健;譚久彬
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: F16C32/04
• 分類號: F16C32/04;F16C32/06
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 顏希文;宋亞楠

1.一種移動式氣浮導向機構，其特征在于，包括：

兩個基座，其分別為左基座和右基座，所述右基座與所述左基座相互間隔且平行設置，所述左基座和所述右基座均由能夠與磁鐵配合吸附的金屬材質制成，所述左基座具有朝向所述右基座開口的第一導槽，所述右基座具有朝向所述左基座開口的第二導槽；

導軌，所述導軌的左端懸浮架設于所述第一導槽內，所述導軌的右端懸浮架設于所述第二導槽內；

第一懸浮裝置，所述第一懸浮裝置設于所述導軌的左側，所述第一懸浮裝置的左側設有與所述第一導槽的側槽面相對的第一氣懸浮組件和第一磁矩陣，所述第一懸浮裝置的底部設有與所述第二導槽的底槽面相對的第二氣懸浮組件和第二磁矩陣；

第二懸浮裝置，所述第二懸浮裝置設于所述導軌的右側，所述第二懸浮裝置的底部設有與所述第二導槽的底槽面相對的第三氣懸浮組件和第三磁矩陣；

所述第一懸浮裝置包括第一安裝件和第二安裝件，所述第一安裝件和所述第二安裝件轉動連接，所述第二安裝件安裝于所述導軌的左側，所述第一磁矩陣設于所述第一安裝件的左側面，所述第二磁矩陣設于所述第一安裝件的底面，所述第一氣懸浮組件包括至少兩個分別設于所述第一安裝件左側面兩端的氣足，所述第二氣懸浮組件包括至少兩個分別設于所述第二安裝件底面兩端的氣足；所述第二懸浮裝置包括第三安裝件，所述第三安裝件安裝于所述導軌的右側，所述第三磁矩陣設于所述第三安裝件的底面，所述第三氣懸浮組件包括至少兩個分別設于所述第三安裝件底面兩端的氣足。

2.如權利要求1所述的移動式氣浮導向機構，其特征在于，還包括氣浮系統，所述氣浮系統分別連通至所述第一氣懸浮組件、所述第二氣懸浮組件及所述第三氣懸浮組件，所述氣浮系統用于調整流通至各所述氣足的氣流大小，實現對氣浮推力的調整。

3.如權利要求2所述的移動式氣浮導向機構，其特征在于，所述第一懸浮裝置還包括兩個距離傳感器，所述距離傳感器安裝于所述第一安裝件上或所述第二安裝件上，所述距離傳感器與所述氣浮系統電連接，所述氣浮系統被配置為用于：

獲取兩個距離傳感器檢測到的距離值；

判斷所述第一安裝件與所述第二安裝件之間是否平行；

若否，則調整所述第一氣懸浮組件中的各氣足的氣流大小，使所述第一安裝件與所述第二安裝件平行。

4.根據權利要求1所述的移動式氣浮導向機構，其特征在于，所述第一安裝件與所述第二安裝件通過磁性吸附連接。

5.如權利要求4所述的移動式氣浮導向機構，其特征在于，所述第一安裝件和所述第二安裝件通過連接件連接，所述連接件呈圓柱狀且具有磁性，所述第一安裝件和所安裝件均吸附于所述連接件的外壁上并可貼合于所述連接件的外壁相對轉動。

6.如權利要求5所述的移動式氣浮導向機構，其特征在于，所述第一安裝件包括第一基板，所述第一氣懸浮組件的至少兩個氣足分別設于所述第一基板的兩邊，且所述第一氣懸浮組件的至少兩個氣足的排氣孔均朝向左側，所述第一磁矩陣粘設于所述第一基板的左側面，所述第一基板的右側面開設有與所述連接件相適配的弧面凹槽，所述第一基板的下端連接有朝向右側延伸的第二基板，所述第二磁矩陣粘設于所述第二基板的下表面；所述第二安裝件包括第二基板，所述第二基板的左側面開設有與所述連接件相適配的弧面凹槽，所述第二氣懸浮組件的至少兩個氣足分設于所述第二基板的底部的兩端，且所述第二氣懸浮組件的至少兩個氣足的排氣孔均朝向下方。

7.如權利要求1所述的移動式氣浮導向機構，其特征在于，所述左基座包括豎直設置的左側板，所述左側板底端連接有向右側延伸的第一支撐板，所述左側板和所述第一支撐板之間限定形成所述第一導槽；所述右基座包括豎直設置的右側板，所述右側板底端連接有向左側延伸的第二支撐板，所述右側板和所述第二支撐板之間限定形成所述第二導槽；所述導軌的左端懸浮架設于所述第一支撐板上，所述導軌的右端懸浮架設于所述第二支撐板上，所述左側板位于所述第一懸浮裝置的左邊且不與所述第一懸浮裝置接觸，所述右側板位于所述第二懸浮裝置的右邊且不與所述第二懸浮裝置接觸。