[發(fā)明專利]一種高鐵用聯(lián)軸節(jié)端蓋表面鍍層的再制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111108905.7 | 申請日: | 2021-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN113981422A | 公開(公告)日: | 2022-01-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉曉剛;任楊鋒;張志堅;孫興坡;祁磊;姚小春 | 申請(專利權(quán))人: | 陜西天元智能再制造股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C18/32 | 分類號: | C23C18/32;C23C18/16;C23C18/18;C23C28/02;C23G1/14;C25D5/06;C25D3/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 710005 陜西省西安市未央?yún)^(qū)明光路166號*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高鐵用 聯(lián)軸節(jié) 表面 鍍層 制造 方法 | ||
1.一種高鐵用聯(lián)軸節(jié)端蓋表面鍍層的再制造方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、對待處理的聯(lián)軸節(jié)端蓋進(jìn)行清洗,去除表面附著物,并進(jìn)行干燥;
步驟二、對步驟一處理后的聯(lián)軸節(jié)端蓋整體進(jìn)行化學(xué)退鍍處理,去除端蓋表面原有的Ni-P化學(xué)鍍鍍層;
步驟三、對步驟二處理后的聯(lián)軸節(jié)端蓋的內(nèi)圓面進(jìn)行珩磨處理,去除端蓋內(nèi)圓面的磨痕;
步驟四、對步驟三處理后的聯(lián)軸節(jié)端蓋的內(nèi)圓面進(jìn)行電刷鍍處理,在端蓋內(nèi)圓面上形成電刷鍍過渡增材層;
步驟五、對步驟四處理后的聯(lián)軸節(jié)端蓋整體進(jìn)行Ni-P化學(xué)鍍處理,在端蓋表面形成新的Ni-P化學(xué)鍍鍍層;
步驟六、對步驟五處理后的聯(lián)軸節(jié)端蓋進(jìn)行熱處理,熱處理結(jié)束后完成對聯(lián)軸節(jié)端蓋表面鍍層的再制造處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再制造方法,其特征在于,步驟一中還包括對清洗干燥后的聯(lián)軸節(jié)端蓋進(jìn)行再制造評估,所述再制造評估包括外觀再制造評估和內(nèi)圓直徑再制造評估,通過再制造評估確定聯(lián)軸節(jié)端蓋符合再制造技術(shù)要求。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再制造方法,其特征在于,步驟二具體包括:
(1)將經(jīng)步驟一處理后的聯(lián)軸節(jié)端蓋緩慢并完全浸入化學(xué)退鍍?nèi)芤褐校瘜W(xué)退鍍?nèi)芤簻囟瓤刂圃?0~90℃,退鍍時間控制在100-150分鐘;優(yōu)選的所采用的化學(xué)退鍍?nèi)芤河蒀6H4O5NSNa、C12H25SO3Na、C2H8N2和NaOH配置而成,各組分濃度為:C6H4O5NSNa:8-12g/L、C12H25SO3Na:0.1-0.2g/L,C2H8N2:100-150g/L,NaOH:80-120g/L;
(2)每隔預(yù)定時間觀察端蓋表面鍍層的退鍍情況,直至完全退除表面鍍層;
(3)完全退除表面鍍層后,端蓋表面化學(xué)成分中Ni元素重量百分比為≤0.5%、P元素重量百分比為≤0.5%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再制造方法,其特征在于,步驟三中采用內(nèi)圓磨加工磨削工藝對端蓋內(nèi)圓面進(jìn)行珩磨處理,端蓋內(nèi)圓面經(jīng)珩磨處理后的尺寸要求為106.7+0.04 0mm,端蓋內(nèi)圓面的表面粗糙度要求為≤Ra0.2μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的再制造方法,其特征在于,步驟四具體包括:
(1)將對端蓋內(nèi)圓面進(jìn)行除油除銹處理,并采用蒸餾水進(jìn)行清洗;
(2)用鍍筆蘸取電刷鍍液對端蓋內(nèi)圓面進(jìn)行電刷鍍處理,刷鍍溫度控制在45℃-65℃,刷鍍時間選擇為5-15min,刷鍍電壓選擇為8-14V,鍍筆運動速度控制在3-6m/min;
(3)對完成電刷鍍處理的端蓋內(nèi)圓面進(jìn)行烘干,烘干溫度控制在80-120℃。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的再制造方法,其特征在于,所述電刷鍍液的主要配方組成以質(zhì)量濃度計為:氯化亞鐵3-6g/L、配位劑2-4g/L、氯化鎳8-12g/L、滲透劑5-8g/L、鎳納米顆粒30-50g/L、硫酸鎳10-15g/L、光亮劑3-4g/L和蒸餾水50-100g;電刷鍍處理后的端蓋內(nèi)圓面的尺寸要求為 106.6+0.08 +0.04mm,端蓋內(nèi)圓面的表面粗糙度要求為≤Ra0.2μm。
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C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理





